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臺(tái)式離子研磨拋光儀

離子研磨拋光儀1060是一臺(tái)高質(zhì)量的SEM樣品制備臺(tái)式精密儀器，滿(mǎn)足幾乎所有材料應(yīng)用的制備。

離子研磨拋光儀是通過(guò)物理科學(xué)技術(shù)來(lái)加強(qiáng)樣品表面特性。使用惰性氣體中具有代表性的氬氣作為氣源，通過(guò)加速電壓使其電離并撞擊樣品表面。在控制的范圍內(nèi)，通過(guò)這種動(dòng)量轉(zhuǎn)換的方式，氬氣離子去撞擊樣品表面從而達(dá)到無(wú)應(yīng)力損傷的SEM觀(guān)察樣品。

雙離子束源

離子研磨拋光儀1060配有兩束離子束，可以同時(shí)聚焦在樣品表面，這樣大大提高了研磨拋光速度。離子束體積小，zui小化了氣體的需求量，但卻能釋放很大的能量。當(dāng)操作高能量時(shí)，即使在低角度的情況下，研磨速度也很快；當(dāng)操作低能量時(shí)，樣品表面材料濺射出的同時(shí)也不會(huì)帶來(lái)其他雜質(zhì)。

真空艙體和快速樣品傳遞

SEM離子研磨拋光儀1060的真空艙體保證了設(shè)備操作過(guò)程中持續(xù)真空，預(yù)真空鎖使真空艙體與外部環(huán)境隔離，保證了樣品轉(zhuǎn)移過(guò)程中**的真空環(huán)境。小尺寸的樣品艙在后期維護(hù)中清理也更加簡(jiǎn)便。

實(shí)時(shí)樣品觀(guān)察

遮板可以阻止濺射的材料干擾樣品觀(guān)察。樣品表面上方內(nèi)置光源用以照明。 體視顯微鏡-選配 SEM離子研磨拋光儀可以通過(guò)一臺(tái)體視顯微鏡做樣品觀(guān)察。由于體視顯微鏡的工作距離較大，在研磨的時(shí)候可以直接在原處觀(guān)察； 高倍率的顯微成像系統(tǒng)-選配 SEM離子研磨切割儀可以配置一臺(tái)高倍率的顯微鏡、數(shù)碼相機(jī)以及視頻顯示器，通過(guò)抓取圖像并將圖像投影到顯示器上，此種方式是制備特定位置樣品的一個(gè)理想方式。 當(dāng)使用高倍顯微成像系統(tǒng)時(shí)，樣品將被傳送到預(yù)真空鎖的真空環(huán)境中拍照，然后再返回原位置繼續(xù)研磨拋光操作。

可電腦編程控制樣品移動(dòng)

離子研磨拋光儀1060具備樣品高度自動(dòng)感應(yīng)功能，目前業(yè)界僅我們的1060具備此功能。這也方便了操作者可以通過(guò)電腦編程來(lái)對(duì)樣品進(jìn)行重復(fù)定位、調(diào)節(jié)旋轉(zhuǎn)速度和往復(fù)擺動(dòng)角度。擺動(dòng)角度通?？梢詮?span style="font-family:calibri,sans-serif">±40?到±60?。