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Plasma 2000 全譜ICP光譜儀
Plasma 2000 全譜ICP光譜儀

參考價(jià)格

面議

型號(hào)

Plasma 2000

品牌

產(chǎn)地

北京

樣本

暫無(wú)
鋼研納克檢測(cè)技術(shù)股份有限公司

會(huì)員

|

第4年

|

代理商

工商已核實(shí)

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核心參數(shù)
  • 誤差率:

    .
  • 分辨率:

    .
  • 重現(xiàn)性:

    .
  • 儀器原理:

    其他
  • 分散方式:

    .
  • 測(cè)量時(shí)間:

    .
  • 測(cè)量范圍:

    .
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Plasma 2000 全譜ICP光譜儀

產(chǎn)品詳情

儀器類(lèi)型全譜型ICP觀(guān)測(cè)方式單向觀(guān)測(cè)矩管放置垂直放置
震蕩頻率27.12MHz頻率穩(wěn)定性優(yōu)于0.01%功率穩(wěn)定性優(yōu)于0.1%
光源類(lèi)型固態(tài)光源光柵類(lèi)型中階梯光柵檢測(cè)器類(lèi)型背照式CCD
儀器尺寸121cm*74cm*80cm儀器重量200kg

      鋼研納克ICP光譜儀,35年電感耦合等離子體光譜儀方法開(kāi)發(fā)經(jīng)驗(yàn),數(shù)十項(xiàng)ICP檢測(cè)標(biāo)準(zhǔn)的起草單位,ICP光譜儀產(chǎn)品標(biāo)準(zhǔn)GB/T 36244-2018起草單位,重大科學(xué)儀器專(zhuān)項(xiàng)《ICP痕量分析儀器的研制》牽頭單位。央企品牌,上市公司,品質(zhì)之選!歡迎來(lái)電洽談。聯(lián)系電話(huà):400-62******

儀器介紹

      Plasma2000型電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀是鋼研納克“國(guó)家重大科學(xué)儀器設(shè)備開(kāi)發(fā)專(zhuān)項(xiàng)”成果。采用中階梯光柵光學(xué)結(jié)構(gòu)和科研級(jí)CCD檢測(cè)器實(shí)現(xiàn)全譜采集。儀器穩(wěn)定性好、檢測(cè)限低、快速分析、運(yùn)行成本低。

      Plasma2000型電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀可用于地質(zhì)、冶金、稀土及磁材料、環(huán)境、醫(yī)藥衛(wèi)生、生物、海洋、石油、化工新型材料、農(nóng)業(yè)、食品商檢、水質(zhì)等各領(lǐng)域及學(xué)科的樣品分析??梢钥焖?、準(zhǔn)確地檢測(cè)從微量到常量約70種元素。

 

1、 中階梯光柵與棱鏡交叉色散結(jié)構(gòu),徑向觀(guān)測(cè),具有穩(wěn)健的檢測(cè)能力。

2、 高效穩(wěn)定的固態(tài)射頻發(fā)生器,體積小巧,匹配速度快,確保儀器的高精度運(yùn)行及優(yōu)異的長(zhǎng)期穩(wěn)定性。

3、 高速面陣CCD采集技術(shù),單次曝光獲取全部譜線(xiàn)信息,真正實(shí)現(xiàn)“全譜直讀”。

4、 功能強(qiáng)大的軟件系統(tǒng),簡(jiǎn)化分析方法的開(kāi)發(fā)過(guò)程,為用戶(hù)量身打造簡(jiǎn)潔、舒適的操作體驗(yàn)。

技術(shù)參數(shù)

1. 光學(xué)系統(tǒng):中階梯二維分光光學(xué)系統(tǒng),焦距400mm

2. 譜線(xiàn)范圍:165nm~950nm,光學(xué)分辨率:0.007nm(200nm處)

3. 光柵規(guī)格:中階梯光柵,52.67刻線(xiàn)/毫米,尺寸:100mm x 50mm

4. 晶體管固態(tài)射頻發(fā)生器,小巧高效

5. 27.12MHz頻率提高信噪比,改善了檢出限

6. 自動(dòng)匹配調(diào)節(jié)

7. 全組裝式炬管,降低了維護(hù)成本

8. 計(jì)算機(jī)控制可變速12滾軸四通道蠕動(dòng)泵,具有快速清洗功能

9. 實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)穩(wěn)定性良好:重復(fù)性 RSD ≤0.5% (1mg/L) (n=10);穩(wěn)定性:RSD ≤1.0%(大于3小時(shí))


儀器特點(diǎn)

穩(wěn)健高效的全固態(tài)光源

      全固態(tài)射頻發(fā)生器,體積小、效率高,全自動(dòng)負(fù)載匹配,速度快、精度高,能適應(yīng)各種復(fù)雜基體樣品及揮發(fā)性有機(jī)溶劑的測(cè)試,具有優(yōu)異的長(zhǎng)期穩(wěn)定性。

      垂直炬管的設(shè)計(jì),具有更好的樣品耐受性,減少了清潔需求,降低了備用炬管的消耗。

      簡(jiǎn)潔的炬管安裝定位設(shè)計(jì),快速定位,精確的位置重現(xiàn)。 

      實(shí)時(shí)監(jiān)控儀器運(yùn)行參數(shù),高性能CAN工業(yè)現(xiàn)場(chǎng)總線(xiàn),保障通訊高效可靠。

 

精密的光學(xué)系統(tǒng)

      中階梯光柵與棱鏡交叉色散結(jié)構(gòu),使用超純SiO2棱鏡,高光路傳輸效率,保證了深紫外區(qū)的元素測(cè)量。

      優(yōu)化的光學(xué)設(shè)計(jì),采用非球面光學(xué)元件,改善成像質(zhì)量,提高光譜采集效率。

      光室多點(diǎn)充氣技術(shù),縮短光室充氣時(shí)間,提高紫外光譜靈敏度及穩(wěn)定性,開(kāi)機(jī)即可測(cè)量。

      光室氣路獨(dú)立,可充氮?dú)饣驓鍤狻?/span>

      包圍式立體控溫系統(tǒng),保障光學(xué)系統(tǒng)長(zhǎng)期穩(wěn)定無(wú)漂移。

 

進(jìn)樣系統(tǒng)

      儀器配備系列經(jīng)過(guò)優(yōu)化的進(jìn)樣系統(tǒng),可用于有機(jī)溶劑、高鹽/復(fù)雜基體樣品、含氫氟酸等樣品的測(cè)試。

      使用一體式炬管,易于維護(hù),轉(zhuǎn)換快速,使用成本低。

      使用質(zhì)量流量控制器控制冷卻氣、輔助氣和載氣的流量,流量連續(xù)可調(diào),保障測(cè)試性能長(zhǎng)期穩(wěn)定。

      4通道12滾輪蠕動(dòng)泵,泵速連續(xù)可調(diào),確保樣品導(dǎo)入穩(wěn)定性。

   

檢測(cè)器

      大面積背照式CCD檢測(cè)器, 全譜段響應(yīng),高紫外量子化效率,抗飽和溢出

      具有極寬的動(dòng)態(tài)范圍和極快的信號(hào)處理速度

      一次曝光,完成全譜光譜信號(hào)的采集讀取,獲得更為快速、準(zhǔn)確的分析結(jié)果

      同類(lèi)產(chǎn)品中**靶面尺寸,***像素,單像素面積24μm X 24μm

      三級(jí)半導(dǎo)體制冷,制冷溫度低于-35℃,具有更低的噪聲和更好的穩(wěn)定性


創(chuàng)新點(diǎn)

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用戶(hù)評(píng)論

產(chǎn)品質(zhì)量

10分

售后服務(wù)

10分

易用性

10分

性?xún)r(jià)比

10分
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