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THERMAL NIL 桌面式納米熱壓印機(jī)

NIR-MFD-S-SM-2 NILT CNI 實(shí)驗(yàn)用納米熱壓印機(jī)是專為實(shí)驗(yàn)室和研發(fā)機(jī)構(gòu)設(shè)計(jì)和開發(fā)的簡(jiǎn)單易用、性能穩(wěn)定的研發(fā)型設(shè)備，用戶可以通過CNI設(shè)備高效、低成本地實(shí)現(xiàn)高精度的納米熱壓工藝，許多知名的研發(fā)機(jī)構(gòu)均購買了CNI的設(shè)備和NILT CNI熱壓設(shè)備。

產(chǎn)品特點(diǎn)

● 占地小、操作簡(jiǎn)便

● 可實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量的圖形復(fù)制

● 可實(shí)現(xiàn)納米熱壓設(shè)備的一切功能，而無需昂貴的工藝設(shè)備

產(chǎn)品應(yīng)用

● 在硅片上制作納米級(jí)光柵

● 壓印易碎的材料（例如III-V族材料）

● 微結(jié)構(gòu)加工

● 制作壓印印章

● 保護(hù)母版的適用壽命

● 熱壓高深寬比結(jié)構(gòu)圖形

技術(shù)參數(shù)

THERMAL NIL主要性能指標(biāo)

● 集成控溫卡盤，可對(duì)溫度進(jìn)行測(cè)量、控制

● 可適用于100mm（4 英寸以下）所有尺寸和形狀的壓印模板。

● 可適用于Silicon， Quartz， Nickel and Polymer materials

● 壓印程序可進(jìn)行編程

● 適用所有熱壓印材料

● 設(shè)備可用于復(fù)制壓印母板

● 壓印溫度可達(dá)200 攝氏度

● 壓力范圍：1‐10 bar

● 壓印精度：40nm 或更好 (可完成工藝驗(yàn)收)

● 將模板加熱和溫度測(cè)量集成與壓印載盤上

● 載盤適用于易碎襯底

● 快速升溫，快速降溫，擁有**技術(shù)的卡盤設(shè)計(jì)，可保證快速升溫、降溫并保持良好的溫度均勻性。20℃‐130℃‐70℃少于8 分鐘

● 提供COC 有機(jī)聚合物中間層軟膜（***的母板復(fù)制工藝），耗材及工藝培訓(xùn)

● 提供壓印相關(guān)材料

● 提供工藝培訓(xùn)和支持

壓印程序可進(jìn)行編程（溫度、壓力、時(shí)間）

壓印實(shí)例

聚合物中間層工藝

NIL TECHNOLOGY ApS (NILT)高分子聚合物中間層壓印技術(shù)可以實(shí)現(xiàn)納米壓印/熱壓印非平面化的壓印，同時(shí)高分子聚合物中間層的熱塑彈性材料實(shí)現(xiàn)納米結(jié)構(gòu)的轉(zhuǎn)移和復(fù)制。可保護(hù)昂貴的母板因多次轉(zhuǎn)印而損壞，同時(shí)用于母板的復(fù)制。

NIL TECHNOLOGY ApS (NILT) 部分應(yīng)用實(shí)例

1、仿生應(yīng)用用于制作昆蟲眼部六角結(jié)構(gòu)

2、微型注射針頭結(jié)構(gòu)

3、方形結(jié)構(gòu)陣列500nm

4、分布式反饋激光器，240nm光柵結(jié)構(gòu)

5、磷化銦(InP)，突出高度:112nm

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