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小型磁控濺射儀JS-1600M
小型磁控濺射儀JS-1600M

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北京

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一、 產(chǎn)品應(yīng)用:

JS-1600M型磁控濺射儀是依據(jù)二極(DC)直流濺射原理設(shè)計(jì)而成的,*簡(jiǎn)單、可靠、經(jīng)濟(jì)的鍍膜設(shè)備。適用于電鏡實(shí)驗(yàn)室的掃描電子顯微鏡(SEM)樣品制備,非導(dǎo)體材料實(shí)驗(yàn)電極制作。

二、 配置及技術(shù)指標(biāo):

1. 本系統(tǒng)裝配了水冷卻磁控靶,靶面直徑為50 mm

2. 主機(jī)規(guī)格:L360mm*W300mm*H380mm

3. 靶(上部電極):金:直徑:50mm,厚度:0.1mm

4. 真空樣品室: 直徑:160mm,高:120mm

5. 濺射面積: Ф50mm

6. 真空指示表: **真空度:≤ 4X10-2 mbar

7. 離子電流表: **電流:100mA

8. 定時(shí)器: *長(zhǎng)時(shí)間:3600S

9. 微型真空氣閥: 可連接φ3mm軟管

10. 可通入氣體: 多種

11. **電壓: -1600 DCV

12. 機(jī)械泵: 2L/S

三、 產(chǎn)品特點(diǎn)

1. 輕便、濺射面積大

2. 可以濺射鉑、金及銀等金屬

3. 濺射效率高,可水冷降溫

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10分

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10分

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