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日立離子研磨系統(tǒng)ArBlade5000
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日立ArBlade 5000離子研磨系統(tǒng)能夠實現(xiàn)高產量,并制備廣域橫截面樣品。

離子研磨系統(tǒng)使用通過在表面上照射氬離子束引起的濺射效應來拋光樣品的表面。樣品預處理系統(tǒng)可以用于電子和先進材料等各個領域的研發(fā)和質量控制等。

與機械拋光不同,離子研磨系統(tǒng)處理樣品而不會變形或施加機械應力。因此,用于預處理樣品的離子銑削系統(tǒng)的應用范圍不斷擴大,不僅包括掃描電子顯微鏡(SEM),還包括原子力顯微鏡(SPM / AFM)等。離子銑削系統(tǒng)應用范圍廣泛,日立高新收集了用戶在各種領域提供的關鍵性建議和改進,并將它們納入到* 新的設計平臺。

新推出的ArBlade 5000具有混合研磨功能,能夠進行橫截面研磨,是日立離子研磨系統(tǒng)的獨 家標志。此功能使樣品能夠根據(jù)所需的目的和應用進行預處理。

ArBlade 5000還具有PLUS II離子槍技術設計。這是一種新的氬離子槍,可以實現(xiàn)了1mm/hr以上的截面銑削速度(日立高新的IM4000Plus型號的兩倍)。新系統(tǒng)使用戶能夠在比以前更短的時間內準備橫截面,包括陶瓷和金屬等硬質材料,這往往需要較長的加工時間。

此外,日立高新開發(fā)了全新的寬區(qū)域橫截面研磨,以實現(xiàn)橫截面研磨,* 大研磨寬度為8mm,從而可以制備比以往更大的截面樣品。通過與下一代氬離子槍的協(xié)同效應,新的ArBlade 5000可以與市場上可用的任何其他離子系統(tǒng)一起制備廣域橫截面樣品。

  

主要特點

  1.能夠進行橫截面和平面的混合研磨系統(tǒng)。

  2.通過PLUS II離子槍技術設計高速氬離子槍實現(xiàn)1mm/hr或更高的橫截面研磨速度。

  3.通過使用廣域橫截面研磨,實現(xiàn)* 大寬度達8mm的廣域加工。

  4.基于采用LCD觸摸面板的全新控制系統(tǒng),增強了可操作性。

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