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EMPro是針對(duì)高端研發(fā)和質(zhì)量控制領(lǐng)域推出的**型多入射角激光橢偏儀。
EMPro可在單入射角度或多入射角度下進(jìn)行高精度、高準(zhǔn)確性測(cè)量??捎糜跍y(cè)量單層或多層納米薄膜樣品的膜層厚度、折射率n和消光系數(shù)k;也可用于同時(shí)測(cè)量塊狀材料的折射率n和消光系數(shù)k;亦可用于實(shí)時(shí)測(cè)量快速變化的納米薄膜動(dòng)態(tài)生長(zhǎng)中膜層的厚度、折射率n和消光系數(shù)k。多入射角度設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)了納米薄膜的**厚度測(cè)量。
EMPro采用了量拓科技多項(xiàng)**技術(shù)。
特點(diǎn):
原子層量級(jí)的極高靈敏度
百毫秒量級(jí)的快速測(cè)量
簡(jiǎn)單方便的儀器操作
技術(shù)指標(biāo):
項(xiàng)目 | 技術(shù)指標(biāo) |
儀器型號(hào) | EMPro31 |
激光波長(zhǎng) | 632.8nm (He-Ne Laser) |
(1)膜層厚度精度 | 0.01nm (對(duì)于平面Si基底上100nm的SiO2膜層) |
(1)折射率精度 | 1x10-4 (對(duì)于Si基底上100nm的SiO2膜層) |
單次測(cè)量時(shí)間 | 與測(cè)量設(shè)置相關(guān),典型0.6s |
結(jié)構(gòu) | PSCA(Δ在0°或180°附近時(shí)也具有極高的準(zhǔn)確度) |
激光光束直徑 | 1mm |
入射角度 | 40°-90°可手動(dòng)調(diào)節(jié),步進(jìn)5° |
樣品方位調(diào)整 |
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樣品臺(tái)尺寸 | 平面樣品直徑可達(dá)Φ170mm |
**的膜層范圍 |
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**外形尺寸 | 887 x 332 x 552mm (入射角為90º時(shí)) |
儀器重量(凈重) | 25Kg |
選配件 |
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軟件 | ETEM軟件:
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注:(1)精度:是指對(duì)標(biāo)準(zhǔn)樣品上同一點(diǎn)、同一條件下連續(xù)測(cè)量25次所計(jì)算的標(biāo)準(zhǔn)差。
性能保證:
暫無(wú)數(shù)據(jù)!