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對(duì)天然的、富含雜質(zhì)的礦石物質(zhì)的拋光過程要比普通的巖石樣品拋光困難的多。對(duì)物質(zhì)的拋光要與該物質(zhì)的地質(zhì)屬性相一致,此設(shè)備磨拋不同巖石薄片其厚度可以精確調(diào)節(jié)。
該產(chǎn)品對(duì)樣品的拋光會(huì)在同一時(shí)間內(nèi)進(jìn)行三個(gè)方面的操作:
1)拋光盤的自動(dòng)旋轉(zhuǎn)。 2)樣品夾持器自旋轉(zhuǎn)。 3)磨料自動(dòng)滴入。
該設(shè)備同時(shí)處理1至5個(gè)樣品薄片,可以在幾分鐘內(nèi)同時(shí)完成打磨1個(gè)或5個(gè)樣品的**面。每個(gè)樣品都有單獨(dú)設(shè)置厚度的壓片器(5個(gè)樣品**尺寸是30X45mm; 3個(gè)樣品**尺寸是45X60mm)。
2) 拋光過程是定時(shí)控制,沒有其它外力干擾,運(yùn)轉(zhuǎn)時(shí)間可控,精確控制薄片厚度。
性能:
磨頭:1-5個(gè)
轉(zhuǎn)速:25到200rpm
標(biāo)準(zhǔn)樣品尺寸:30x45mm, 60x45mm,特定
計(jì)時(shí)器:1到60分鐘
拋光盤直徑:200mm, 硬度可調(diào)
多種拋光料:6um, 3um, 1um
50張拋光布:Φ200 mm
同時(shí)可以使用Φ150至Φ250 mm的拋光盤
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