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RDB-BC-Si品牌
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1、產(chǎn)品信息
貨號 | 厚度 | 純度（%） | 形貌 | 顏色 |
RDB-BC-Si | 可定制 | 99.9 | 靶材 | 深藍色或者灰色 |
2、產(chǎn)品規(guī)格
定制
3、產(chǎn)品概述
硅（Si）靶材通常用于物理蒸發(fā)沉積和磁控濺射等薄膜沉積工藝，主要應(yīng)用于制備半導(dǎo)體材料、光學(xué)薄膜和其他高科技領(lǐng)域的產(chǎn)品。由于硅具有良好的導(dǎo)電性和光學(xué)性能，因此在這些領(lǐng)域中得到廣泛應(yīng)用。例如，硅靶材可用于制備半導(dǎo)體薄膜、光學(xué)涂層、太陽能電池等。此外，硅靶材還可用于制備顯示器件、光電器件和其他高端工業(yè)產(chǎn)品。
4、產(chǎn)品用途
高純度：硅靶材通常具有高純度，能夠滿足各種工藝對材料純度的要求。
工藝適用性：硅靶材可用于不同的薄膜沉積工藝，包括物理蒸發(fā)沉積和磁控濺射等。
應(yīng)用領(lǐng)域：硅靶材在半導(dǎo)體制造、光學(xué)涂層、薄膜材料等領(lǐng)域有廣泛的應(yīng)用。
性能優(yōu)異：硅靶材具有良好的導(dǎo)電性和化學(xué)穩(wěn)定性，能夠滿足高端產(chǎn)品對材料性能的要求。
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