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用于半導(dǎo)體工業(yè)晶圓加工設(shè)備的耐等離子體刻蝕材料，可以避免等離子刻蝕過程中高能含氟等離子體對(duì)腔體內(nèi)各部件的侵蝕，也可以避免刻蝕過程中生成的難揮發(fā)氟化物沉積在晶圓表面，增加部件的使用壽命，減少晶圓的污染。有研稀土可以根據(jù)客戶需求提供多種粒度的Y2O3高純?cè)炝７垠w。
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