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適用于 150-200 mm硅片的高分辨率厚度與平整度(TTV)測量儀。只需幾秒鐘即可輕松適應(yīng)不同厚度范圍,可集成到自動機(jī)器人分揀系統(tǒng)中。適用于研發(fā)、工藝驗(yàn)證以及厚度和平整度(TTV)的工藝控制。一對電容式傳感器會在每片晶圓上測量四個(gè)徑向輪廓(45 度角)。其中一個(gè)輪廓包含 200 個(gè)同部厚度值,并相對于相鄰輪廓偏移 45 度。配有強(qiáng)大的 MX-NT 操作軟件。

儀器功能:

晶圓厚度測量儀 MX 102-8基于已有的適用于 150 mm和 200mm晶圓的類似測量設(shè)備,MX 102 能夠生成四個(gè)(或八個(gè))徑向剖面圖,每個(gè)剖面圖包含數(shù)百個(gè)精確的厚度數(shù)據(jù)點(diǎn)。該設(shè)備配備了一對分辨率為 10 納米的電容式傳感器,能夠在數(shù)秒內(nèi)快速適應(yīng)不同的厚度測量范圍。在每次掃描之前,設(shè)備會通過一個(gè)經(jīng)過認(rèn)證的標(biāo)準(zhǔn)量塊實(shí)現(xiàn)自動重新校準(zhǔn),以確保測量結(jié)果的高度準(zhǔn)確性

多次掃描:

對于眾多應(yīng)用場景而言,標(biāo)準(zhǔn)的四次徑向掃描通常已能滿足需求,特別是針對經(jīng)過研磨處理后接近旋轉(zhuǎn)對稱特性的晶圓。從理論角度分析,通過增加掃描次數(shù),可實(shí)現(xiàn)對晶圓表面約 50% 區(qū)域的覆蓋。然而,由于晶圓支撐結(jié)構(gòu)的存在,其余部分區(qū)域則會位于支撐點(diǎn)所形成的“遮擋范圍”內(nèi),難以直接進(jìn)行掃描。

XN-0ption:

針對 200 mm晶圓,通過引入一種簡易的附加運(yùn)動即可有效解決上述問題。在測量周期的**階段完成后,晶圓將被抬升,并由兩個(gè)夾具進(jìn)行臨時(shí)固定,與此同時(shí),晶圓下方的轉(zhuǎn)盤執(zhí)行 45 度旋轉(zhuǎn)操作。隨后,晶圓重新下降至支撐結(jié)構(gòu),并由真空吸盤完成二次夾緊,此時(shí)測量周期的第二階段隨即啟動,從而實(shí)現(xiàn)對剩余區(qū)域的全面覆蓋。

MX 102 在分辨率與通量之間實(shí)現(xiàn)了優(yōu)化平衡:第二次掃描周期的偏移角度為 22.5 度,從而生成八個(gè)交叉掃描剖面,總測量點(diǎn)數(shù)可達(dá)約 240個(gè)或更多。通過簡單的三維圖形化展示,能夠直觀呈現(xiàn)晶圓的整體幾何特性。