中國粉體網(wǎng)訊  近日，規(guī)劃總投資120億元的晶鎂半導(dǎo)體高端光罩項(xiàng)目正式落戶合肥高新區(qū)。

該項(xiàng)目主要從事28nm及以上半導(dǎo)體光罩的研發(fā)、生產(chǎn)和銷售等，一期投資65億元，滿產(chǎn)后月產(chǎn)能約3200片。項(xiàng)目建成后，能有效緩解國內(nèi)高端光罩長期依賴進(jìn)口的局面，更將為提升產(chǎn)業(yè)鏈國產(chǎn)化水平、強(qiáng)化自主可控能力提供堅(jiān)實(shí)保障。

晶鎂半導(dǎo)體高端光罩項(xiàng)目效果圖

半導(dǎo)體光罩，又稱光掩膜版，是投影光刻的必備關(guān)鍵材料，其制造具有投入高、規(guī)模小、技術(shù)精密度高且產(chǎn)品零缺陷等特點(diǎn)，作為芯片制造上游的關(guān)鍵材料，在半導(dǎo)體制造的光刻工藝中用于承載芯片設(shè)計(jì)圖案并轉(zhuǎn)移至晶圓，直接影響制程精度和良率，技術(shù)門檻高，是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈自主化的重要環(huán)節(jié)之一，且長期被少數(shù)國際企業(yè)壟斷。

光掩膜基板是光掩模版的主要原材料，主要分為樹脂基板和玻璃基板兩類，其中玻璃基板因高精度需求多采用具有高純度、耐高溫和低熱膨脹系數(shù)等特性的高純石英玻璃材料，對芯片圖案轉(zhuǎn)移精度起關(guān)鍵作用，目前國內(nèi)光掩膜基板呈現(xiàn)中低端自給率提升、高端領(lǐng)域依賴進(jìn)口且國產(chǎn)替代加速的特點(diǎn)。高制程掩膜版加工涉及涂膠、圖形光刻等核心步驟，當(dāng)前存在設(shè)備依賴和材料與工藝精度問題，硬件上無高端裝備可用，軟件上研發(fā)技術(shù)能力不足，且國外對高端裝備禁售、技術(shù)封鎖，我國掩模版在高端領(lǐng)域處于突破初期，技術(shù)差距體現(xiàn)在先進(jìn)制程能力不足等方面。

此次晶鎂半導(dǎo)體高端光罩項(xiàng)目的落戶，不僅將實(shí)現(xiàn)高端光罩“高新造”，也是高新區(qū)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)強(qiáng)化延鏈補(bǔ)鏈戰(zhàn)略的關(guān)鍵一步。

據(jù)介紹，今年以來，合肥高新區(qū)在“夯實(shí)產(chǎn)業(yè)基礎(chǔ)、完善產(chǎn)業(yè)鏈條、壯大產(chǎn)業(yè)規(guī)�！钡确矫娉掷m(xù)發(fā)力，推動(dòng)集成電路產(chǎn)業(yè)快速穩(wěn)定發(fā)展，目前集聚合肥市重點(diǎn)產(chǎn)業(yè)鏈企業(yè)204家，占全市約63%。

參考來源：合肥高新發(fā)布；合肥晚報(bào)；中國粉體網(wǎng)

(中國粉體網(wǎng)編輯整理/九思)

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