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 納米小型真空均質(zhì)機，納米真空均質(zhì)機，納米小型均質(zhì)機，納米研發(fā)用真空均質(zhì)機，小型真空均質(zhì)機用于實驗室研發(fā)用，模擬工業(yè)化生產(chǎn)，為工業(yè)化生產(chǎn)提供可靠的試驗數(shù)據(jù)。
  

   納米真空均質(zhì)機可以有效的消除均質(zhì)過程中泡沫，可以是物料均質(zhì)的更徹底；真空均質(zhì)機也可以用于一些不易于空氣接觸的物料（易燃易爆），規(guī)避風險，提高生產(chǎn)的安全性。
                 
  納米小型真空均質(zhì)機是由真空系統(tǒng)和均質(zhì)機組成，一個真空罐體和管線式均質(zhì)機相結(jié)合，真空罐內(nèi)可以根據(jù)物料的粘稠度來配置相應的攪拌機（普通攪拌或者刮壁攪拌），小型真空罐有進料口、觀察窗、放空閥等。小型管線式均質(zhì)機為ER2000/4高剪切均質(zhì)機，是一款小試和中試的*理想均質(zhì)設備，ER2000/4設備轉(zhuǎn)速高達9000rpm，三級工作頭，采用德國博格曼雙端面機械密封，均質(zhì)效果**。

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影響均質(zhì)均質(zhì)結(jié)果的因素有以下幾點

1 均質(zhì)頭的形式（批次式和連續(xù)式）（連續(xù)式比批次好）

2 均質(zhì)頭的剪切速率 （越大，效果越好）

3 均質(zhì)頭的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒，中齒，細齒，超細齒，約細齒效果越好）

4  物料在均質(zhì)墻體的停留時間，均質(zhì)均質(zhì)時間（可以看作同等的電機，流量越小，效果越好）

5 循環(huán)次數(shù)（越多，效果越好，到設備的期限，就不能再好）

線速度的計算

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

– 剪切速率 (s-1) =           v  速率 (m/s)   
                         g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知，剪切速率取決于以下因素：

– 轉(zhuǎn)子的線速率

– 在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。 
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm 

速率V=  3.14 X  D（轉(zhuǎn)子直徑）X 轉(zhuǎn)速 RPM  /   60
                        

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