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化學氣相沉積（Chemical Vapor Deposition，CVD）是應用氣態(tài)物質在固體上產生化學反應和傳輸反應等并產生固態(tài)沉積物的一種工藝。安徽貝意克多年來堅持在技術和產品方面持續(xù)創(chuàng)新，最新研發(fā)BTF-1200C-III-3D-CVD-D210智能型連續(xù)進出料CVD設備，為您提供了一種全新的解決方案，告別低效燒制，貝意克助您邁向連續(xù)進出料CVD時代！

高效率：設備在使用過程中，可以在加熱爐不停止加熱的情況下，連續(xù)進料、出料；與常規(guī)加熱設備相比，省去了因加熱爐升溫、降溫過程中等待的時間，極大的提高了設備的使用效率。

操作便捷：左右進出料采用智能推拉機構，可實現(xiàn)真空或惰性氣體保護下將載具推送進高溫爐或將載具拉離高溫爐，操作更方便。

安全、低能耗：設備表面溫度＜60℃，有效保護科研人員和材料；省去多次升溫頻率，能耗低節(jié)能更環(huán)保，適合工業(yè)化生產。

貝意克智能型連續(xù)進出料CVD設備包含主要由七大部分，進料腔，大口徑管式爐、出料腔、推拉機構、供氣系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、以及自動化控制軟件組成。廣泛應用于納米材料、半導體、金屬材料、特種陶瓷等新材料研發(fā)。

BTF-1200C-III-3D-CVD-D210智能型連續(xù)進出料CVD設備

特征

進/出料腔

我們設備的左側進料腔和右側的進料腔均配有一個16mm的推料桿，可以實現(xiàn)真空或惰性氣體保護下推送載具進入高溫爐內；進料腔右側法蘭通過氣動插板閥與高溫爐鏈接和隔斷，可以實現(xiàn)進料腔和高溫管式爐相互獨立工作，互不干擾。

高溫生長爐

該設備是大口徑管式爐采用優(yōu)質電阻絲加熱，最高使用溫度可達1100℃，加熱區(qū)長度為150+300+150mm，采用3段控溫且每段上下兩點控溫的方式，可有效提高溫差均勻性；同時系統(tǒng)設置了超溫、欠溫、斷偶報警保護功能，大大降低了對操作人員經驗的要求。

智能推拉機構

進料腔左側密封法蘭上配有推料桿及軌道；出料腔右側密封法蘭上配有拉料桿及軌道；可以實現(xiàn)真空或惰性氣體保護下將載具推送進高溫爐或將載具拉離高溫爐，智能推拉機構，操作更為便捷。

三路供氣系統(tǒng)可自由調節(jié)流速可混氣

該設備包含3部分供氣系統(tǒng)，進料腔配備1路質量流量計惰性氣體供氣裝置，高溫生長爐配備1路質量流量計惰性氣體混氣裝置，出料腔配備1路質量流量計惰性氣體供氣裝置；共計5路質量流量計。（可按客戶需求定制真空系統(tǒng)）

三套真空系統(tǒng) 按客戶需求定制

該設備的進料腔配備1套機械泵（機械泵抽速16m3/h、型號DRV-16），高溫生長爐1套機械泵（機械泵抽速24m3/h、型號DRV-24），出料腔配備1套機械泵（機械泵抽速16m3/h、型號DRV-16）。

彩色觸摸屏數(shù)字控制系統(tǒng)

采用觸摸屏自動控制，參數(shù)設置和操作直觀方便，可進行溫度、時間等參數(shù)快速設定；參數(shù)自動記錄保持，一鍵操作。具有人性化，直觀化，集成度高，控制工藝成熟，系統(tǒng)穩(wěn)定可靠，性價比高等優(yōu)點。

一站式服務規(guī)劃

量身打造的解決方案，個性化的建議

想要根據(jù)用戶的需求定制合適的產品，就要考慮到各種不同因素。我們?yōu)橛脩籼峁┤嬷С?，從產品下單到交付到售后運維的設備全生命周期內服務，我們擁有業(yè)界領先的技術，始終如一的產品質量；全面的客戶服務，經驗豐富且專業(yè)的銷售和技術支持團隊；現(xiàn)場支持能力，貝意克銷售就在客戶身邊，隨時為客戶提供服務。

設備參數(shù) 

可按客戶需求定制