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安東帕很自豪地宣布推出HTK 1500 高溫腔室，這是原位高溫 X 射線(xiàn)衍射（XRD）環(huán)境加熱腔室的新標(biāo)桿。

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產(chǎn)品介紹

HTK 1500 允許將多種類(lèi)型的樣品材料（包括粉末和塊狀樣品）在不降低精度的情況下均勻加熱至1500°C。

HTK 1500 以其卓越的溫度精度和穩(wěn)定性脫穎而出。加熱棒的位置和高精度溫度測(cè)量確保了從25°C到1500°C的持續(xù)加熱。這種智能設(shè)計(jì)，結(jié)合先進(jìn)的加熱器和絕緣材料，使其成為陶瓷、金屬等材料高溫應(yīng)用的理想選擇。在高溫且需要滿(mǎn)足高精度的情況下，無(wú)論是確定晶格參數(shù)還是熱膨脹系數(shù)，以及測(cè)量溫度引起的相變和反應(yīng)，這都是最佳選擇。

02

產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)

• 獨(dú)特的環(huán)境加熱器設(shè)計(jì)，實(shí)現(xiàn)均勻的溫度分布

• 反射幾何與透射幾何之間的輕松切換

• 多種樣品類(lèi)型和氣體環(huán)境

• 與 XRDynamic 500 完美集成

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應(yīng)用領(lǐng)域

• 熱膨脹系數(shù)

• 動(dòng)態(tài)結(jié)構(gòu)變化

• 相圖研究

• 測(cè)定晶格常數(shù)