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臥式化學氣相沉積爐(碳化硅)
臥式化學氣相沉積爐(碳化硅)

參考價格

面議

型號

HCVD-060609-C

品牌

頂立科技

產(chǎn)地

湖南長沙

樣本

暫無
湖南頂立科技股份有限公司

金牌會員

|

第13年

|

生產(chǎn)商

工商已核實

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核心參數(shù)
  • 非金屬電熱元件:

    其他
  • 金屬電熱元件:

    其他
  • 燒結氣氛:

    真空
  • 溫控精度:

    ±5~±10
  • 最高溫度:

    1500
  • 額定溫度:

    1500
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臥式化學氣相沉積爐(沉積炭)主要用于以碳氫氣體(天然氣、丙烷、丙烯)為碳源的預制體氣相滲透增密處理

 

技術特征

 

電阻爐可采用多溫區(qū)獨立控溫,溫度均勻性好;

采用智能壓力調(diào)控,壓力波動??;

全封閉沉積室,密封效果好,抗污染能力強;

多通道工藝氣路,流程均勻,無沉積死角,沉積效果好;

多級高效尾氣處理系統(tǒng),環(huán)境友好,能高效收集焦油及副產(chǎn)物,易清理;

可選配外循環(huán)快冷系統(tǒng),降溫時間短,生產(chǎn)效率高;

 

產(chǎn)品規(guī)格

 

參數(shù)\型號HCVD-060609-CHCVD-101015-CHCVD-121220-CHCVD-151530-CHCVD-152023-CHCVD-252035-C
工作區(qū)尺寸
W×H×L(mm)
600×600×9001000×1000×15001200×1200×20001500×1500×30001500×2000×23002500×2000×3500
**溫度(℃)150015001500150015001500
溫度均勻性(℃)±5±7.5±10±10±10±10
極限真空度(Pa)1-1001-1001-1001-1001-1001-100
壓升率(Pa/h)0.670.670.670.670.670.67
加熱方式電阻電阻電阻電阻電阻電阻

以上參數(shù)可根據(jù)工藝要求進行調(diào)整,不作為驗收依據(jù),具體以技術方案和協(xié)議為準。



主要配置

 

結構形式:臥式-單開門/雙開門;立式-上出料/下出料

爐門鎖緊方式:手動/自動

爐殼材質(zhì):全碳鋼/內(nèi)層不銹鋼/全不銹鋼

保溫材質(zhì):碳氈/石墨氈/碳纖維固化氈/陶瓷纖維氈

加熱器、馬弗:石墨/CFC/金屬

熱電偶:K/N/C/S分度號

電源:KGPS/IGBT(僅適用于中頻加熱)


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