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產(chǎn)品簡介：

• 基于視窗結構的軟件，很容易操作

• 先進的深紫外光學及堅固耐用的抗震設計，以確保系統(tǒng)能發(fā)揮出好的性能及長的正常運行時間

• 基于陣列設計的探測器系統(tǒng)，以確?？焖贉y量

• 低價格，便攜式及靈巧的操作臺面設計

• 在很小的尺寸范圍內(nèi)，多可測量多達5層的薄膜厚度及折射率

• 在毫秒的時間內(nèi)，可以獲得反射率、傳輸率和吸收光譜等一些參數(shù)

• 能夠用于實時或在線的監(jiān)控光譜、厚度及折射率

• 系統(tǒng)配備大量的光學常數(shù)數(shù)據(jù)及數(shù)據(jù)庫

• 對于每個被測薄膜樣品，用戶可以利用先進的軟件功能選擇使用NK數(shù)據(jù)庫、也可以進行色散或者復合模型（EMA）測量分析

• 系統(tǒng)集合了可視化、光譜測量、仿真、薄膜厚度測量等功能于一體

• 能夠應用于不同類型、不同厚度(zui厚可測200mm)的基片測量

• 使用深紫外光測量的薄膜厚度zui低可至20 ?

• 2D和3D的圖形輸出和友好的用戶數(shù)據(jù)管理界面

• 先進的成像軟件可用于諸如角度、距離、面積、粒子計數(shù)等尺寸測量

• 各種不同的選配件可滿足客戶各種特殊的應用

系統(tǒng)配置：

• 型號：MSP100RTM

• 探測器：2048像素的CCD陣列

• 光源：高功率的深紫外－可見光光源

• 光傳送方式：光纖

• 自動的臺架平臺：特殊處理的鋁合金操作平臺，能夠在5”×3”的距離上移動，并且有著1μm的分辨率，程序控制

• 物鏡有著長焦點距離:4×，10×，15×(DUV)，50×

• 通訊接口：USB的通訊接口與計算機相連

• 測量類型：反射/透射光譜、薄膜厚度/反射光譜和特性參數(shù)

• 計算機硬件：英特兒酷睿2雙核處理器，200G硬盤、DVD刻錄機，19”LCD顯示器

• 電源：110–240V AC/50-60Hz，3A

• 尺寸：16’x16’x18’ (操作桌面設置)

• 重量：120磅總重

• 保修：一年的整機及零備件保修

基本參數(shù)：

• 波長范圍：250nm到1000 nm

• 波長分辨率: 1nm

• 光斑尺寸：100µm (4x)， 40µm (10x)， 30µm (15x)， 8µm (50x)

• 基片尺寸：zui多可至20mm厚

• 測量厚度范圍: 20Å 到25 µm

• 測量時間：zui快2毫秒

• 精度*：優(yōu)于0.5％（通過使用相同的光學常數(shù)，讓橢偏儀的結果與熱氧化物樣品相比較）

• 重復性誤差*：小于2 ?

應用領域：

• 半導體制造（PR，Oxide， Nitride..)

• 液晶顯示（ITO，PR，Cell gap... ..）

• 醫(yī)學，生物薄膜及材料領域等

• 油墨，礦物學，顏料，調(diào)色劑等

• 醫(yī)藥及醫(yī)藥中間設備等

• 光學涂層，TiO2， SiO2， Ta2O5... ..

• 半導體化合物

• 在MEMS/MOEMS系統(tǒng)上的功能性薄膜

• 非晶體，納米材料和結晶硅

產(chǎn)品可選項：

• 波長可擴展到遠深紫外光或者近紅外光范圍

• 高功率的深紫外光?用于小斑點測量

• 可根據(jù)客戶的特殊需求來定制

• 在動態(tài)實驗研究時，可根據(jù)需要對平臺進行加熱或致冷

• 可選擇的平臺尺寸zui多可測量300??mm大小尺寸的樣品

• 更高的波長范圍的分辨率可低至0.1nm

• 各種濾光片可供各種特殊的需求

• 可添加應用于熒光測量的附件

• 可添加用于拉曼應用的附件

• 可添加用于偏光應用的附件