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一、產(chǎn)品特點(diǎn)：
    1、面積大：0~?25毫米、0~?50毫米；

    2、濺射樣品表面膜層更均勻；

    3、顆粒度更?。?nm左右）；

    4、濺射到樣品表面能量低，對(duì)樣品損傷?。唬ㄟm用溫度敏感性高的樣品）

    5、可以濺射各種固體靶材（如各種金屬、陶瓷、碳等）；

    6、控制精度高，實(shí)驗(yàn)結(jié)果精準(zhǔn)可控重復(fù)性高；

    7、在同一真空腔內(nèi)，可實(shí)現(xiàn)清洗和鍍膜，降低污染樣品造成的數(shù)據(jù)偏差 ；
    8、加入特殊氣體，可進(jìn)行反應(yīng)離子束刻蝕；
    9、可實(shí)現(xiàn)的功能有：等離子清洗、鍍膜等；
    10、數(shù)字化自動(dòng)控制系統(tǒng)。

二、技術(shù)參數(shù)：

    1、真空度：極限真空度5*10-3Pa（不通氬氣）；

    2、*高壓：（1）200~6000V；

    3、樣品臺(tái)可旋轉(zhuǎn)；

    4、具有自保護(hù)功能；

    5、單離子槍；

    6、樣品冷卻：半導(dǎo)體冷卻（ 選配件）。