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CMP后清洗液
CMP后清洗液

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型號

CMP后清洗液

品牌

湖北鼎龍

產地

湖北

樣本

暫無
湖北鼎龍控股股份有限公司

高級會員

|

第1年

|

生產商

工商已核實

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  • 品級:

    工業(yè)級
  • 外觀:

    液體
  • 有效物質含量:

    -
  • 執(zhí)行質量標準:

    -
  • 密度(g/c㎡):

    -
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主要用于去除殘留在晶圓表面的微塵顆粒、有機物、無機物、金屬離子、氧化物等雜質,滿足集成電路制造對清潔度的極高要求,對晶圓生產的良率起到了重要的作用。全系列原材料電子級純化產線,諸多核心材料自主生產。

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