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微波 PLASMA品牌
正陽工業(yè)產(chǎn)地
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應(yīng)用場景 | 傳統(tǒng)方法局限性 | 微波PLASMA優(yōu)勢 |
光刻膠去除 | 耗時、化學(xué)污染 | 快速、無化學(xué)殘留? |
芯片封裝處理 | 高溫損傷、均勻性差 | 低溫操作、高均勻性? |
刻蝕工藝 | 精度不足、材料限制 | 納米級精度、多材料兼容? |
暫無數(shù)據(jù)！
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