中國粉體網(wǎng)訊  新型CVD法制備硅碳復(fù)合負(fù)極材料，其性能不僅取決于原料的選擇與優(yōu)化，沉積設(shè)備的關(guān)鍵作用同樣不容忽視。沉積設(shè)備的核心參數(shù)（如溫度場均勻性、氣流分布特性、壓力控制精度等）直接影響材料沉積的均勻性、重復(fù)性及工藝安全性。此外，設(shè)備的單次沉積容量和連續(xù)生產(chǎn)能力是決定其產(chǎn)業(yè)化可行性的關(guān)鍵指標(biāo)，這些因素直接影響生產(chǎn)成本和規(guī)�；�制備效率，進(jìn)而決定了該技術(shù)的商業(yè)化進(jìn)程。目前用于CVD硅碳負(fù)極工業(yè)化生產(chǎn)的設(shè)備主要有流化床和回轉(zhuǎn)爐兩種反應(yīng)器系統(tǒng)�；剞D(zhuǎn)爐設(shè)備是一個(gè)用于煅燒的固定床設(shè)備，通過傾斜和旋轉(zhuǎn)來確保物料的均勻加熱。在制備CVD硅碳負(fù)極材料的過程中，將多孔碳基體材料放入回轉(zhuǎn)爐中，通入惰性氣體并加熱到500℃左右，引入硅烷氣體進(jìn)..【詳細(xì)】