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▼概要美國國家標(biāo)準(zhǔn)技術(shù)研究所（National Institute of Standards and Technology）NIST發(fā)表了CaF2等的氟化物雙折射對于實現(xiàn)光刻的高解像度是很大的障礙。現(xiàn)在雖然確立了補償方法，克服這種問題，但是為驗證這個方法是否可行，需要用到在真空紫外波長區(qū)域具有高靈敏度的雙折射計。本裝置是日本分光多年來積累的偏光測定技術(shù)在真空紫外領(lǐng)域的擴(kuò)展，高靈敏度雙折射測量的解決方案。根據(jù)偏光變調(diào)法，在真空紫外波長區(qū)域進(jìn)行氟化物等的雙折射測量。為排除氧以及水的吸收所有的光路都進(jìn)行氮氣吹掃。
◆規(guī)格
▼BRV-100
BRV-100 | |
波長范圍 | 140nm～320nm |
光刻靈敏度 | 0.05nm（157nm） |
穩(wěn)定性 | 1count／h（157nm） |
檢測下限 | 0.17 nm（157nm） |
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