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名稱 | CMP 化學機械拋光機 |
型號 | CAP-H2 |
作業(yè)模式 | 干進干出 |
適用工藝 | SiC 襯底拋光 |
對應產品 | 4~8inch |
CMP table | 2 pcs |
Contour head | 分區(qū)壓力控制 |
公司成立于2024年，是一家集機械設計、電氣研制、軟件開發(fā)、精密制造于一體的裝備制造商。創(chuàng)生源制造基地位于江蘇.宿遷, 分別在無錫、宿遷、太原設立分公司及工程研發(fā)中心，先后獲得6項***、41項實用新型**、20項軟件著作權，同時公司通過了ISO9001質量管理體系認證、GJB9001C武器裝備質量管理體系認證、ISO14001環(huán)境管理體系認證、ISO45001職業(yè)健康安全管理體系認證，榮獲國家高新技術企業(yè)、江蘇省民營科技企業(yè)等榮譽稱號。
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