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團聚

推薦分散劑:“你們不能在一起!”

中國粉體網(wǎng)訊 目前化學(xué)機械拋光(CMP)是世界上公認的可以實現(xiàn)集成電路制造中全局平坦化的技術(shù),其精度可以達到納米級別。化學(xué)機械拋光系統(tǒng)主要由拋光液、拋光墊和拋光頭三部分組成,想要得到高精度的表面質(zhì)量,除了工藝和設(shè)備參數(shù)的設(shè)定[更多]

資訊 拋光拋光液分散劑團聚化學(xué)添加劑
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