中國粉體網(wǎng)訊  近日，冠石科技發(fā)布公告，擬定向增發(fā)募集不超過7億元資金，發(fā)行對象為不超過35名特定投資者，發(fā)行數(shù)量不超過2204.05萬股，募集資金通過控股子公司寧波冠石半導(dǎo)體實施。

本次募集資金扣除發(fā)行費用后，5.3億元用于光掩膜版制造項目（項目總投資19.31億元，剩余資金由公司自籌），1.7億元用于補(bǔ)充流動資金，以緩解業(yè)務(wù)擴(kuò)張帶來的資金壓力。

作為本次募資的核心項目，光掩膜版制造項目由冠石科技控股子公司寧波冠石半導(dǎo)體有限公司負(fù)責(zé)，建設(shè)地點位于浙江省寧波市前灣新區(qū)，整體建設(shè)周期為5年，達(dá)產(chǎn)后將實現(xiàn)年產(chǎn)12450片半導(dǎo)體光掩膜版的產(chǎn)能規(guī)模。

該項目總投資19.31億元中，建設(shè)投資占比最高，達(dá)18.81億元，擬使用募集資金5.3億元；剩余部分均由公司自籌。值得注意的是，目前項目推進(jìn)順利，廠房已基本建設(shè)完成，主要生產(chǎn)設(shè)備完成安裝調(diào)試，2025年3月已實現(xiàn)55nm新品發(fā)布及40nm通線，截至2025年8月末累計收入約1018.73萬元，待終端客戶6-9個月驗證周期結(jié)束后，收入有望進(jìn)一步增長。

根據(jù)公告信息披露，國內(nèi)光掩膜版行業(yè)的中高端市場仍主要由國外掩膜版廠商占據(jù)，目前境內(nèi)先進(jìn)制造工藝為28nm工藝，境外企業(yè)福尼克斯、凸版印刷、大日本印刷5nm、3nm及以下光刻制程的掩膜版已量產(chǎn)應(yīng)用，并支持EUV光刻，這些企業(yè)對于光掩膜版的關(guān)鍵技術(shù)進(jìn)行了較為嚴(yán)格的封鎖，使得我國半導(dǎo)體掩膜版廠商已實現(xiàn)量產(chǎn)節(jié)點仍較為落后，主流產(chǎn)品制程以350-130nm為主，國產(chǎn)化率較低。根據(jù)中國電子協(xié)會數(shù)據(jù)統(tǒng)計，目前中國半導(dǎo)體光掩膜版的整體國產(chǎn)化率約為10%，而高端光掩膜版國產(chǎn)化率僅為3%，國內(nèi)光掩膜版生產(chǎn)廠商產(chǎn)業(yè)鏈自主可控仍存在重大短板。

本次募資投入光掩膜版制造項目，有助于公司加快產(chǎn)能建設(shè)步伐，盡早實現(xiàn)產(chǎn)線全面達(dá)產(chǎn)，同時提速28nm先進(jìn)制程設(shè)備的采購、調(diào)試及產(chǎn)線貫通進(jìn)程，縮短與國際先進(jìn)水平差距，推動產(chǎn)業(yè)生態(tài)向本土化、高端化方向迭代升級。光掩膜版制造項目的實施也有助于公司抓住光掩膜版國產(chǎn)化機(jī)遇，把握下游市場需求增長機(jī)遇，構(gòu)建公司新的業(yè)績增長點。

項目建成后，公司將增強(qiáng)在關(guān)鍵工藝環(huán)節(jié)的裝備保障能力，提升掩膜版產(chǎn)品的穩(wěn)定性與交付能力，滿足客戶對納米級精度與近乎零缺陷的質(zhì)量要求。此外，產(chǎn)能的前瞻性布局也有助于公司應(yīng)對國內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈對高端掩膜版日益增長的需求。

公告表示，公司自2002年成立以來，確立了緊密圍繞半導(dǎo)體顯示領(lǐng)域，緊跟市場和客戶需求，不斷完善產(chǎn)業(yè)鏈布局的發(fā)展戰(zhàn)略。公司已從最初的特種膠粘材料，逐步擴(kuò)展到偏光片、功能性器件、信號連接器、液晶面板、生產(chǎn)輔耗材等產(chǎn)品。光掩膜版制造項目的實施有助于公司完善半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈布局，實現(xiàn)公司長遠(yuǎn)發(fā)展戰(zhàn)略的加速落地。

參考來源：冠石科技官網(wǎng)、公告

(中國粉體網(wǎng)編輯整理/九思)

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