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一、設備簡介
我公司研制的滑軌式PECVD系統(tǒng)能使整個實驗腔體都處于輝光產(chǎn)生區(qū)，輝光均勻等效，這種技術(shù)很好的解決了傳統(tǒng)等離子工作不穩(wěn)定狀態(tài)，這樣離子化的范圍和強度是傳統(tǒng)PECVD的百倍，并解決了物料不均勻堆積現(xiàn)象。該款設備是全自動Plasma增強CVD系統(tǒng)（PECVD），系統(tǒng)可以實現(xiàn)連續(xù)滑動溫區(qū)，連續(xù)可控制溫度及Plasma強度。PECVD是借助于輝光放電等方法產(chǎn)生等離子體，輝光放電等離子體中：
1、電子密度高109-1012cm3電子氣體溫度比普通氣體分子溫度高出10-100倍，使含有薄膜組成的氣態(tài)物質(zhì)發(fā)生化學反應，從而實現(xiàn)薄膜材料生長的一種新的制備技術(shù)。
2、通過反應氣態(tài)放電，有效地利用了非平衡等離子體的反應特征，從根本上改變了反應體系的能量供給方式低溫熱等離子體化學氣相沉積法具有氣相法的所有優(yōu)點，工藝流程簡單
二、主要基本參數(shù)
1、加熱系統(tǒng)
使用溫度 | 1200℃ |
使用溫度 | ≤1100℃ |
爐膛有效尺寸 | Φ50mm |
爐膛材料 | 氧化鋁、高溫纖維制品 |
熱電偶類型 | K型熱電偶 |
控溫精度 | ±1℃ |
控溫方式 | 30段可編程控溫，PID參數(shù)自整定。 |
加熱長度 | 230mm |
恒溫長度 | 100mm |
加熱原件 | 電阻絲 |
供電電源 | 單相，220V，50Hz |
2、PE系統(tǒng)
功率輸出范圍 | 0W~150W |
射頻輸出接口 | 50 Ω, N-type, female |
功率穩(wěn)定度 | ≤5W |
諧波分量 | ≤-50dbc |
供電電壓 | 單相交流（187V-253V） 頻率50/60HZ |
整機效率 | >=70% |
功率因素 | >=90% |
冷卻方式 | 強制風冷 |
3、三路質(zhì)子流量控制系統(tǒng)
連接頭類型 | 雙卡套不銹鋼接頭 |
標準量程（N2) | 50sccm，100sccm、500sccm （可根據(jù)用戶要求定制） |
準確度 | ±1.5%F.S |
線性 | ±1%F.S |
重復精度 | ±0.2%F.S |
響應時間 | 氣特性：1～4 Sec，電特性：10 Sec |
工作壓差范圍 | 0.1～0.5 MPa |
壓力 | ≤3MPa |
接口 | Φ6,1/4'' |
顯示 | 4位數(shù)字顯示 |
工作環(huán)境溫度 | 5~45高純氣體 |
壓力真空表 | －0.1～0.15 MPa, 0.01 MPa/格 |
截止閥 | Φ6 |
內(nèi)外雙拋不銹鋼管 | Φ6 |
4、低真空機組
空氣相對濕度 | ≤85% |
工作環(huán)境 | 5℃～40℃ |
工作電電壓 | 220V |
抽氣速率 | 10m3/h |
極限真空 | 5X10-1Pa（空載冷態(tài)） |
工作壓力范圍 | 1.01325X105～1.33X10-2Pa |
進氣口口徑 | KF25 |
排氣口口徑 | KF25 |
連接方式 | 采用波紋管，手動擋板閥與波紋管相連 |
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