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PD-450/600H熱絲化學氣相沉積設備品牌
普迪真空產(chǎn)地
湖北樣本
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產(chǎn)品摘要
該設備采用熱絲法化學氣相沉積技術，主要用來生長金剛石膜、類金剛石膜、氮化硅和氧化硅膜等。該設備適合于小批量生長大尺寸片狀多晶金剛石厚膜、刀具表面生長金剛石膜、納米金剛石膜等。
產(chǎn)品介紹
設備特點：
★升降結構平穩(wěn)，樣品臺水平度好，利于生長較均勻厚膜絲架采用特殊結構，熱絲的平行度好能長期穩(wěn)定工作
★更合理的氣路布局及更貼合生產(chǎn)工藝的細節(jié)考慮，可長期穩(wěn)定工作
★軟件配置西門子PLC+10寸西門子觸摸顯示屏，操作界面友好，所有操作均可在觸摸屏上完成
★實現(xiàn)φ100-300mm基片范圍內均勻沉積
設備參數(shù)：
★腔體尺寸：φ450×H350mm/φ650×H500mm
★基片臺：150mmx150mm/200mmx200mm
★溫度：熱絲溫度1800℃-2500℃襯底溫度600℃-1000℃,電源型式專用熱絲電源15/25kw
暫無數(shù)據(jù)！
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移動端
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