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高精密多腔磁控濺射光學(xué)鍍膜機(jī)品牌
匯成真空產(chǎn)地
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具備RF-ICP/CCP輔助磁控濺射后氧化模式，具有高沉積速率且光學(xué)性能匹配的特點。適用于車載蓋板玻璃和3C產(chǎn)品前蓋玻璃沉積AR膜，其中AR膜可為普通SiO2+Nb2O5膜系，也可為硬質(zhì)SiO2+Si3N4膜系。同時也適用于3C產(chǎn)品后蓋顏色膜（含漸變色膜）、NCVM膜的加工。
旋轉(zhuǎn)陰極裝置與行內(nèi)普通平面靶裝置相比靶材使用周期與利用效率顯著提高；可客制化的基板工件架結(jié)構(gòu)定制，給客戶產(chǎn)品擺放達(dá)到**的利用空間；全自動一體的提拉升降的轉(zhuǎn)架裝置，大幅度減少機(jī)器開關(guān)門時間，大大提高了生產(chǎn)效率與工藝穩(wěn)定性；匯成**離子源具有工作范圍廣能量均衡，高離化率，超穩(wěn)定工作效率，低耗能等特點。
可利用時間精準(zhǔn)控制薄膜厚度，達(dá)到設(shè)計工藝要求，節(jié)省晶控，光控環(huán)節(jié)，為客戶省去大量的膜厚儀耗材；可生產(chǎn)高折射率氮化薄膜，提高薄膜硬度性能；低溫成膜，可應(yīng)對各種用途；自動調(diào)節(jié)氣體流量**裝置，保持穩(wěn)定的靶電壓，保證成膜品質(zhì)；可選“校正板外部調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)”。
優(yōu)勢：
?出色的均勻性
?可實現(xiàn)不同的材料或提高產(chǎn)量
?集成式等離子體源，可提高涂層質(zhì)量并進(jìn)行基板預(yù)清潔
?快速更換不同尺寸基板的工具
?高目標(biāo)利用率，不影響涂層規(guī)格
?簡單的目標(biāo)交換和易于訪問的系統(tǒng)維護(hù)
| 規(guī)格 | |
| 型號 | HCSO-1650T |
| 鍍膜區(qū)域 | Φ1650x H850mm |
| 結(jié)構(gòu) | 多腔室 |
| 性能 | |
| 轉(zhuǎn)速 | 10~100RPM（可變） |
| 進(jìn)出料室抽速 | 大氣壓至10Pa≤5min |
| 工藝室抽速 | 3.0×10-3Pa≤15min |
| 極限真空度 | 8.0×10-5Pa (成膜室) |
| 濺射靶材 | Nb,Si,Cr,Al,Ti,In,Nb2O5,ITO,C ... |
| 主要配置 | |
| 夾具系統(tǒng) | 中心旋轉(zhuǎn)公轉(zhuǎn)夾具桶 / 掛板機(jī)械結(jié)構(gòu)傳動 |
| 掛板 | （掛板寬度200～300 ) × H850mm |
| 掛板尺寸可客制化調(diào)整 | |
| 排氣系統(tǒng) | 低真空泵組 + 高真空泵組 + Polycold |
| 真空控制系統(tǒng) | 真空控制器、潘寧及皮拉尼真空計 |
| 鍍膜系統(tǒng) | DC/MF磁控濺射源+ ICP等離子體源 + 在線AF/AS蒸發(fā)源 |
| 充氣系統(tǒng) | MFC或APC自動壓強(qiáng)控制儀 |
| 控制系統(tǒng) | PC+PLC |
| 應(yīng)用 | |
| 光學(xué)薄膜應(yīng)用 | UV/IR截止濾光片、帶通濾光片、RGB濾光片、激光雷達(dá)、AR、硬質(zhì)AR膜、硬質(zhì)膜、HR膜、AS/AF等，兼容2D/3D基材 |
| 適用波長 | 300nm~1560nm |
| 注：可客制化（數(shù)據(jù)僅供參考） | |
暫無數(shù)據(jù)！
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