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高精密電子束蒸發(fā)鍍膜機品牌
匯成真空產(chǎn)地
廣東樣本
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在玻璃/PC/PMMA基片上形成高精度光學(xué)多層薄膜的精密真空鍍膜機;將滿足客戶需求的多種元件組合在一起,可以形成品質(zhì)更加優(yōu)良的薄膜;基片傘架采用中心旋轉(zhuǎn)方式(公轉(zhuǎn)),減少產(chǎn)生振動和顆粒,使基片能夠穩(wěn)定旋轉(zhuǎn)。
采用坩堝上沒有極片的電子束加熱方式作為蒸發(fā)源,可以穩(wěn)定地形成多層膜;采用本公司獨有的比率控制法和多點在線監(jiān)控,可以形成高精度且穩(wěn)定的光學(xué)多層膜;可利用操作性良好的升降機來取出基片傘架。
使用均勻分布的高離子電流密度的離子源,搭載雙電子槍,多點和環(huán)型坩堝可鍍100層以上,利用自動蒸鍍控制系統(tǒng)實現(xiàn)全自動蒸鍍過程,工件架可選擇鐘罩式或行星式。
AR 膜(基材玻璃透過率>91.5%):
■ 420-680nm波段,單面平均透過率>95%,反射率小于0.5(平均值)% ;
■ 雙面平均透過率>98%,反射率小于0.5(平均值)%;
AS/AF膜測試標(biāo)準(zhǔn):
■ 初始接觸角范圍為 115±5°;
■ 鋼絲絨耐摩擦測試標(biāo)準(zhǔn):用 0000#鋼絲絨,面積為 10*10mm,行程 40 次/分,負(fù)載1Kg,5000 次往返摩擦后,接觸角大于 100°;
■ 橡皮擦測試標(biāo)準(zhǔn): 直徑 6mm 橡皮擦,行程 25 次/分,負(fù)載1Kg, 2500 次往返摩擦后,接觸角大于 100°;
備注:測試樣片玻璃需為經(jīng)過精密拋光過的觸摸屏蓋板專用玻璃,表面光潔。
優(yōu)勢:
?提高沉積速率以實現(xiàn)更高產(chǎn)量
?在半導(dǎo)體,光電和光子學(xué)領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)高精度工藝
?堅固耐用且易于維護
規(guī)格 | |
型號 | HCEB-1100 |
腔體尺寸 | Φ1100 x H1520 |
裝載量 | 0.8 m2 |
結(jié)構(gòu) | 立式前開門,SUS304不銹鋼 |
性能 | |
轉(zhuǎn)速 | 10~30RPM(可變) |
抽速 | 大氣壓至1.5×10-3Pa≤30min |
極限真空度 | 8.0×10-5Pa |
膜料 | TiO2,Ti3O5,H4,ZrO2,ZnS,Al2O3,MgF2,SiO2,Au,Ag,Cu,Al,Ti,In,Sn... |
主要配置 | |
夾具系統(tǒng) | 中心上旋轉(zhuǎn)傘架,單體或分體 |
加熱系統(tǒng) | 鹵素?zé)?/ 鎧裝加熱器,**350℃ |
排氣系統(tǒng) | 低真空泵組 + 高真空泵組 + 低溫泵 / Polycold |
真空控制系統(tǒng) | 真空控制器、潘寧及皮拉尼真空計 |
鍍膜系統(tǒng) | 電子槍,無氧銅坩鍋,阻抗式蒸發(fā)源,射頻/考夫曼型/霍爾型離子源 |
充氣系統(tǒng) | MFC或APC自動壓強控制儀 |
膜厚控制儀 | 晶控或光控 |
控制系統(tǒng) | PC+PLC |
應(yīng)用 | |
光學(xué)薄膜應(yīng)用 | UV/IR截止濾光片、裝飾膜、帶通濾光片、RGB濾光片、光觸媒、HR膜等 |
適用波長 | 300nm~1560nm |
注:可客制化(數(shù)據(jù)僅供參考) |
暫無數(shù)據(jù)!