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主要技術(shù)指標(biāo)

ZZB型真空熱蒸發(fā)與手套箱組合系統(tǒng)的用戶群體為科研院所實(shí)驗(yàn)室，真空蒸發(fā)系統(tǒng)工作室置于Glove box無水、無氧、無塵的超純環(huán)境中，PVD與Glove box硬件無縫銜接，操控融為一體，廣泛應(yīng)用于OLED、PLED、OPV研究領(lǐng)域。

主要特點(diǎn)

◆自主研發(fā)、專業(yè)密封、無泄漏

◆手套箱和鍍膜機(jī)程序互聯(lián)，避免手套被吸破的風(fēng)險

◆真空室和手套箱無縫銜接；做到無水、無氧、無塵，薄膜制備與后期工序順暢無污染；較傳統(tǒng)真空腔室與手套箱環(huán)境的機(jī)械傳遞，這種結(jié)構(gòu)更簡單，可靠，方便；

◆前門的鎖緊機(jī)構(gòu)采用自動鎖緊，從而避免了前門關(guān)不嚴(yán)還要手動推緊、手動鎖緊裝置開門時候損壞密封圈等問題，使用設(shè)備更方便、快捷、可靠；

◆ 304 真空專用不銹鋼材質(zhì)、鏡面拋光、前門采用側(cè)滑結(jié)構(gòu)，節(jié)約手套箱箱里面空間，真空極限高，使用維護(hù)方便；

◆ FF200/1300 型分子泵作為主抽泵，實(shí)現(xiàn)抽真空快，真空極限高達(dá)3×10-5Pa ；

◆ 蒸發(fā)源采用合理的水冷結(jié)構(gòu)，精密的水路結(jié)構(gòu)設(shè)計，使電極溫升小，可長時間連續(xù)穩(wěn)定工作；合理的蒸發(fā)源布局，保證每個蒸發(fā)源到基片的距離完全一樣，提高了成膜質(zhì)量和均勻性；

◆ 基片臺采用步進(jìn)電機(jī)控制，磁流體傳動，電機(jī)和磁流體同軸，不會產(chǎn)生丟轉(zhuǎn)、爬行等情況，停止后自動回正，方便基片的取放，轉(zhuǎn)速范圍0-40rpm；

◆ 源-基距≥350mm，膜厚儀監(jiān)測蒸發(fā)速率和終厚，達(dá)到良好的薄膜均勻性和重復(fù)性；

◆自動化控制系統(tǒng)，所有操作均在操作臺完成，可以自動開/關(guān)機(jī)，減少人員等待時間，對各種異常情況進(jìn)行報警并執(zhí)行相應(yīng)保護(hù)措施，對各種數(shù)據(jù)進(jìn)度記錄并保存；