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TALD-D 雙腔熱型原子層沉積系統(tǒng)品牌
嘉興科民產(chǎn)地
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ALD系列原子層沉積系統(tǒng)是專門為先進半導體工藝開發(fā)的薄膜沉積系統(tǒng)，已在國內(nèi)高校和科研院所裝機超百臺。以優(yōu)良的品質(zhì)，極高的可靠性，超長的使用壽命受到客戶的認可，產(chǎn)品性能和售后服務(wù)得到用戶一致好評。
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