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鈣鈦礦太陽能電池蒸發(fā)設(shè)備ZDF3200品牌
北京泰科諾產(chǎn)地
北京樣本
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需求描述
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鍍膜方式:蒸發(fā)
腔室結(jié)構(gòu):方箱式
工藝室尺寸:L1900mmxH2200mmxW550mm
進(jìn)樣室:500mm×600mm×400mm
過渡室:500mm×600mm×400mm
極限真空:6×10-5pa
基片臺尺寸:300mm×400mm
基片溫度:常溫
均勻性:≤±5.0%
濺射靶:低溫和高溫線源配置
控制:PC
點(diǎn)地面積:4000mm×2500mm×2200
功率:70KW三相五線制
1. 技術(shù)先進(jìn)、設(shè)計優(yōu)化,性價比高,性能穩(wěn)定,使用維護(hù)成本低;
2. 廣泛應(yīng)用于鈣鈦礦太陽能電池/OPV有機(jī)太陽能電池等各種膜層的制備;
如:鈣鈦礦層、電子傳輸層及背電極等膜層的制備;
暫無數(shù)據(jù)!
產(chǎn)品質(zhì)量
售后服務(wù)
易用性
性價比
電子束蒸發(fā)(Electron Beam Evaporation)是物理氣相沉積的一種形式,其中待蒸發(fā)材料被來自帶電鎢絲的電子束轟擊,當(dāng)電子束撞擊目標(biāo)材料時,它的能量轉(zhuǎn)化為熱能,使目標(biāo)材料達(dá)到蒸發(fā)的狀態(tài)
真空鍍膜技術(shù)應(yīng)用行業(yè)近年來發(fā)展迅速,在各個行業(yè)都有廣泛的應(yīng)用。真空鍍膜技術(shù)用于表面改性和保護(hù),以及提高產(chǎn)品的性能。該行業(yè)在設(shè)備、材料和工藝方面取得了重大進(jìn)步,這導(dǎo)致了新涂層技術(shù)和應(yīng)用的發(fā)展。在可再生能
本文詳細(xì)探討了磁控濺射過程中靶中毒這一關(guān)鍵問題。深入分析了靶中毒的現(xiàn)象、機(jī)理及對濺射過程和薄膜質(zhì)量的嚴(yán)重影響。通過對反應(yīng)氣體、濺射功率、靶材與基底材料等多種因素的綜合研究,揭示了靶中毒的成因。靶面金屬
蒸鍍技術(shù)作為一種重要的薄膜制備方法,在電子、光學(xué)、太陽能等眾多領(lǐng)域得到了廣泛應(yīng)用。選擇合適的蒸鍍材料和蒸發(fā)裝置是制備高質(zhì)量薄膜的關(guān)鍵,直接影響到薄膜的性能、生產(chǎn)成本以及生產(chǎn)效率。本文深入探討常見蒸鍍材
北京泰科諾科技23年真空行業(yè)經(jīng)驗(yàn),獨(dú)立研發(fā)的熱絲法制備金剛石膜方法填補(bǔ)了國內(nèi)行業(yè)空白,產(chǎn)品獲得多項(xiàng)國家專利和認(rèn)證。廣泛適用于各大高校、科研院所和生產(chǎn)企業(yè)實(shí)現(xiàn)教學(xué)、研發(fā)和中試之目的。目前已初步實(shí)現(xiàn)產(chǎn)業(yè)化