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高真空電子束蒸發(fā)鍍膜設備TEMD500品牌
北京泰科諾產地
北京樣本
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設備型號：TEMD500
鍍膜方式：E 型電子槍
真空腔室結構：立式圓柱形側開門結構，后置抽氣系統
真空腔室尺寸：Φ500mm×H600mm
加熱溫度：室溫～ 300℃
基片臺尺寸：平板型 Φ200mm
膜厚不均勻性：≤ ±5.0%
考夫曼離子源：可選
蒸發(fā)源：電子槍 10KW，６穴坩堝，國產／進口（可選）， 配２套電阻蒸發(fā)
控制方式：PLC/PC（可選）
占地面積：L2500mm×W1600mm
總功率：≥ 17kW
適用范圍 ：大專院校、科研院所及企業(yè)進行薄膜新材料的科研與小批量制備
1. 設備一體化設計，占地面積小，性價比高，性能穩(wěn)定，使用維護成本低；
2. 可用于生產線前期工藝試驗等；
3. 實驗室制備導電薄膜、半導體膜、光學薄膜等，可同手套箱復合使用。
1. 設備一體化設計，占地面積小，性價比高，性能穩(wěn)定，使用維護成本低；
2. 可用于生產線前期工藝試驗等；
3. 實驗室制備導電薄膜、半導體膜、光學薄膜等，可同手套箱復合使用。
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