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熱絲CVD金剛石膜沉積設(shè)備HF600品牌
北京泰科諾產(chǎn)地
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用于生長毫米級金剛石厚膜、納米晶金剛石涂層或微米晶金剛石涂層、類金剛石膜、氮化硅和氧化硅膜等，在切削刀具、模具、
絲錐、BDD 水處理電極等表面沉積金剛石薄膜。
熱絲化學氣相沉積金剛石技術(shù)，已廣泛應(yīng)用于國內(nèi)多家用生產(chǎn)金剛石刀具的生產(chǎn)線上。全自動化控制及設(shè)備工藝、技術(shù)穩(wěn)定，適合高端納米金剛石涂層應(yīng)用，為航空制造業(yè)，精密模具及拉絲模具，BDD 電極等廣泛應(yīng)用 。該設(shè)備已生長大尺寸片狀多晶金剛石厚膜，填補了**，并獲得了非?？捎^的經(jīng)濟效益。
產(chǎn)業(yè)化生產(chǎn)及科研
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電子束蒸發(fā)（Electron Beam Evaporation）是物理氣相沉積的一種形式，其中待蒸發(fā)材料被來自帶電鎢絲的電子束轟擊，當電子束撞擊目標材料時，它的能量轉(zhuǎn)化為熱能，使目標材料達到蒸發(fā)的狀態(tài)
真空鍍膜技術(shù)應(yīng)用行業(yè)近年來發(fā)展迅速，在各個行業(yè)都有廣泛的應(yīng)用。真空鍍膜技術(shù)用于表面改性和保護，以及提高產(chǎn)品的性能。該行業(yè)在設(shè)備、材料和工藝方面取得了重大進步，這導致了新涂層技術(shù)和應(yīng)用的發(fā)展。在可再生能
本文詳細探討了磁控濺射過程中靶中毒這一關(guān)鍵問題。深入分析了靶中毒的現(xiàn)象、機理及對濺射過程和薄膜質(zhì)量的嚴重影響。通過對反應(yīng)氣體、濺射功率、靶材與基底材料等多種因素的綜合研究，揭示了靶中毒的成因。靶面金屬
蒸鍍技術(shù)作為一種重要的薄膜制備方法，在電子、光學、太陽能等眾多領(lǐng)域得到了廣泛應(yīng)用。選擇合適的蒸鍍材料和蒸發(fā)裝置是制備高質(zhì)量薄膜的關(guān)鍵，直接影響到薄膜的性能、生產(chǎn)成本以及生產(chǎn)效率。本文深入探討常見蒸鍍材
北京泰科諾科技23年真空行業(yè)經(jīng)驗，獨立研發(fā)的熱絲法制備金剛石膜方法填補了國內(nèi)行業(yè)空白，產(chǎn)品獲得多項國家專利和認證。廣泛適用于各大高校、科研院所和生產(chǎn)企業(yè)實現(xiàn)教學、研發(fā)和中試之目的。目前已初步實現(xiàn)產(chǎn)業(yè)化
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