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北京泰科諾科技有限公司
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公司介紹

北京泰科諾科技有限公司

北京泰科諾科技有限公司成立于2003年,一直專注于真空薄膜新材料沉積設備、真空技術(shù)應用設備及其工藝的研發(fā)試制生產(chǎn),是一家集研發(fā)、設計、制浩銷售和服務于一體的高新技術(shù)企業(yè),在行業(yè)內(nèi)獨樹一幟。公司擁有一支由多位教授、博士等領銜的技術(shù)研發(fā)、顧問團隊,具有較強的自主研發(fā)能力,確保了真空設備產(chǎn)品的高水平。同時建有研發(fā)鍍膜工藝、服務客戶的開放實驗室,始終保持技術(shù)**優(yōu)勢。公司主要研發(fā)設計生產(chǎn)磁控濺射鍍膜設備、電阻蒸發(fā)鍍膜設備、電子東蒸發(fā)鍍膜設備、離子東鍍膜設備、多功能復合鍍膜設備、粉體鍍膜設備、CVD 金剛石涂層設備,高真空熱處理爐,如高真空退火爐、高真空升華提純爐、自耗式真空電弧爐等,以及應用型定制真空

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主推產(chǎn)品

高真空磁控濺射鍍膜設備JCP500
型號:高真空磁控濺射鍍膜設備JCP500 高真空磁控濺射鍍膜設備JCPY500

設備型號:JCP500真空腔室結(jié)構(gòu):立式前開門結(jié)構(gòu)后置抽氣系統(tǒng)真空腔室尺寸:Φ500mm×H420mm加熱溫度:室溫~500℃基片臺尺寸:Φ150mm膜厚不均勻性:Φ100mm范圍內(nèi)≤±5.0%濺射靶:Φ3英寸磁控靶3支兼容DC/MF/RF濺射工藝氣體:2-3路氣體流量控制控制方式:PLC/PC(可選)占地面積(主機):L1900mm×W800mm×H1900mm總功率:≥10kW大專院校、科研院所及企業(yè)進行薄膜新材料的科研與小批量制備1.可提供工藝技術(shù)支持,及良好售后服務;2.設備結(jié)構(gòu)緊湊,占地面積小,性價比高,性能穩(wěn)定,使用維護成本低;3.單靶濺射/多靶依次濺射或共同濺射,兼容DC/MF/

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高真空電子束蒸發(fā)鍍膜設備TEMD600
型號:高真空電子束蒸發(fā)鍍膜設備TEMD600

設備型號:TEMD600鍍膜方式:E型電子槍真空腔室結(jié)構(gòu):立式圓柱形側(cè)開門結(jié)構(gòu),后置抽氣系統(tǒng)真空腔室尺寸:Φ600mm×H750mm加熱溫度:室溫~300℃基片臺尺寸:平板型Φ350mm,或球罩型基片臺(可選)膜厚不均勻性:≤±5.0%考夫曼離子源:可選蒸發(fā)源:電子槍10KW,6穴坩堝,國產(chǎn)/進口(可選),配2套電阻蒸發(fā)控制方式:PLC/PC(可選)占地面積:L2500mm×W1600mm總功率:≥17kW大專院校、科研院所及企業(yè)進行薄膜新材料的科研與小批量制備。1.設備一體化設計,占地面積小,性價比高,性能穩(wěn)定,使用維護成本低;2.可用于生產(chǎn)線前期工藝試驗等;3.實驗室制備導電薄膜、半導體膜

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鈣鈦礦太陽能電池蒸發(fā)設備
型號:ZHDS400

設備名稱:鈣鈦礦太陽能電池蒸發(fā)設備(鍍膜機+手套箱復合型)設備型號:ZHDS400鍍膜方式:金屬+有機/無機蒸發(fā)真空腔室結(jié)構(gòu):SUS304方箱式,配有前、后門真空腔室尺寸:L400mmxW440mmxH450mm加熱溫度:室溫-300℃(選配)基片臺尺寸:抽屜式:120mmx120mm可旋轉(zhuǎn)、升降、水冷膜厚不均勻性:≤±5.0%(120mmx120mm范圍內(nèi))蒸發(fā)源:金屬2組+有機4組或更多,有機配溫控式加熱電源,金屬電源(國產(chǎn)或進口)晶振膜厚監(jiān)控儀:國產(chǎn)或進口(可選)控制方式:PLC/PC控制(可選)占地面積:L2500mmxW1600mmxH1900mm(不含手套箱)總功率:≥10kW三相

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高真空磁控濺射鍍膜設備JCP500

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高真空電子束蒸發(fā)鍍膜設備TEMD600

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鈣鈦礦太陽能電池蒸發(fā)設備

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組合推薦產(chǎn)品

  • 半導體行業(yè)專用儀器
  • 專用設備
  • 恒溫/加熱/干燥設備
  • 真空爐
  • 粉體焙燒爐
高真空磁控濺射鍍膜設備JCP500

型號:高真空磁控濺射鍍膜設備JCP500 高真空磁控濺射鍍膜設備JCPY500

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高真空電子束蒸發(fā)鍍膜設備TEMD600

型號:高真空電子束蒸發(fā)鍍膜設備TEMD600

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納米超硬膜涂層設備GDM1000

型號:納米超硬膜涂層設備GDM1000

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納米超硬膜涂層設備GDM900

型號:納米超硬膜涂層設備GDM900

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大面積平板鍍膜設備JCPF3500

型號:大面積平板鍍膜設備JCPF3500

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高真空磁控濺射鍍膜設備JCPY500

型號:高真空磁控濺射鍍膜設備JCPY500

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高真空磁控濺射鍍膜設備JCP350

型號:高真空磁控濺射鍍膜設備JCP350

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電阻蒸發(fā)鍍膜設備

型號:電阻蒸發(fā)鍍膜設備

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鈣鈦礦太陽能電池蒸發(fā)設備

型號:ZHDS400

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鈣鈦礦太陽能電池蒸發(fā)設備ZHD500

型號:鈣鈦礦太陽能電池蒸發(fā)設備ZHD500

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鈣鈦礦大面積蒸發(fā)設備ZHDY600

型號:鈣鈦礦大面積蒸發(fā)設備ZHDY600

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鈣鈦礦大面積蒸發(fā)設備ZDF3200

型號:鈣鈦礦大面積蒸發(fā)設備ZDF3200

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真空退火爐/釬焊爐VTHK350

型號:真空退火爐/釬焊爐VTHK350

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真空電弧爐VDK250

型號:真空電弧爐VDK250

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真空退火爐/釬焊爐VTHK550

型號:真空退火爐/釬焊爐VTHK550

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高真空磁控濺射鍍膜設備JCP500

型號:高真空磁控濺射鍍膜設備JCP500 高真空磁控濺射鍍膜設備JCPY500

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高真空電子束蒸發(fā)鍍膜設備TEMD600

型號:高真空電子束蒸發(fā)鍍膜設備TEMD600

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納米超硬膜涂層設備GDM1000

型號:納米超硬膜涂層設備GDM1000

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納米超硬膜涂層設備GDM900

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大面積平板鍍膜設備JCPF3500

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高真空磁控濺射鍍膜設備JCPY500

型號:高真空磁控濺射鍍膜設備JCPY500

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高真空磁控濺射鍍膜設備JCP350

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電阻蒸發(fā)鍍膜設備

型號:電阻蒸發(fā)鍍膜設備

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鈣鈦礦太陽能電池蒸發(fā)設備

型號:ZHDS400

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鈣鈦礦太陽能電池蒸發(fā)設備ZHD500

型號:鈣鈦礦太陽能電池蒸發(fā)設備ZHD500

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鈣鈦礦大面積蒸發(fā)設備ZHDY600

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鈣鈦礦大面積蒸發(fā)設備ZDF3200

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真空退火爐/釬焊爐VTHK350

型號:真空退火爐/釬焊爐VTHK350

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真空電弧爐VDK250

型號:真空電弧爐VDK250

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真空退火爐/釬焊爐VTHK550

型號:真空退火爐/釬焊爐VTHK550

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納米超硬膜涂層設備GDM1000

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納米超硬膜涂層設備GDM900

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粉體鍍膜設備JGCF800

型號:粉體鍍膜設備JGCF800

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粉體鍍膜設備JGCF350

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鈣鈦礦太陽能電池磁控鍍膜設備JCP700

型號:鈣鈦礦太陽能電池磁控鍍膜設備JCP700

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真空電弧爐VDK250

型號:真空電弧爐VDK250

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多功能磁控離子濺射復合鍍膜機TSU650

型號:多功能磁控離子濺射復合鍍膜機TSU650

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熱絲CVD金剛石膜沉積設備HF1200

型號:熱絲CVD金剛石膜沉積設備HF1200

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高真空磁控濺射鍍膜設備JCPY500

型號:高真空磁控濺射鍍膜設備JCPY500

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磁控蒸發(fā)復合鍍膜機JCPF2600

型號:磁控蒸發(fā)復合鍍膜機JCPF2600

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為什么電子束可以精確成型?掌握電子束技術(shù)的基本原理

電子束蒸發(fā)(Electron Beam Evaporation)是物理氣相沉積的一種形式,其中待蒸發(fā)材料被來自帶電鎢絲的電子束轟擊,當電子束撞擊目標材料時,它的能量轉(zhuǎn)化為熱能,使目標材料達到蒸發(fā)的狀態(tài),并將其轉(zhuǎn)化為氣態(tài),在高真空室中,這些蒸發(fā)的原子或分子隨后沉積在基板上形成薄膜。電子束蒸發(fā)真空鍍膜設備常見蒸鍍蒸鍍AR / AF涂層,硬質(zhì)膜、裝飾膜、ITO膜 、帶通濾光片、HR膜等,具有效率高,它還

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2025-07-19
真空鍍膜技術(shù)在不同領域的應用

真空鍍膜技術(shù)應用行業(yè)近年來發(fā)展迅速,在各個行業(yè)都有廣泛的應用。真空鍍膜技術(shù)用于表面改性和保護,以及提高產(chǎn)品的性能。該行業(yè)在設備、材料和工藝方面取得了重大進步,這導致了新涂層技術(shù)和應用的發(fā)展。在可再生能源行業(yè),真空鍍膜技術(shù)用于生產(chǎn)薄膜太陽能電池和節(jié)能照明。該技術(shù)還用于燃料電池和蓄電池的開發(fā)。真空鍍膜技術(shù)的另一個重要應用是在電子設備的生產(chǎn)中。涂層可應用于半導體、顯示器和其他電子元件,以提高其性能和耐用

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