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?PVD納米涂層介紹：物理氣相沉積（physical vapor deposition，PVD），是當(dāng)前國(guó)際上廣泛應(yīng)用的先進(jìn)表面處理技術(shù)，屬于鍍膜技術(shù)的一種。其工作原理就是在真空條件下，利用氣體放電使氣體或被蒸發(fā)物質(zhì)部分離化，在氣體離子或被蒸發(fā)物質(zhì)離子轟擊作用的同時(shí)，把蒸發(fā)物或其反應(yīng)物沉積在基底上。它

?毫無(wú)疑問，當(dāng)今的光伏市場(chǎng)是晶硅的天下。但晶硅光伏的效率卻快要達(dá)到天花板了。過(guò)去在60多年的時(shí)間里，已經(jīng)有三代太陽(yáng)能電池發(fā)展出來(lái)。第一代是以硅材料為基本材料的太陽(yáng)能電池，是目前最成熟的主流商業(yè)電池；第二代是薄膜太陽(yáng)能電池，以銅銦鎵硒(CIGS)、碲化鎘(CdTe)電池為代表，相比第一代具有厚度薄、光電

?半導(dǎo)體的未來(lái)正在不斷演變，當(dāng)前的趨勢(shì)預(yù)示著更高水平的創(chuàng)新和競(jìng)爭(zhēng)。在2023年之前，不斷增加的需求、導(dǎo)致了半導(dǎo)體的短缺和生產(chǎn)下滑。隨之而來(lái)的是，全球半導(dǎo)體聯(lián)盟發(fā)布的2022年半導(dǎo)體行業(yè)信心指數(shù)降至56/100，較上一年的歷史最高水平下降了18個(gè)百分點(diǎn)。首先，從半導(dǎo)體設(shè)備角度看，中國(guó)市場(chǎng)已成為全球最大的

?什么是物理氣相沉積（PVD）？物理氣相沉積（Physical vapor deposition，PVD）是一種在真空條件下采用物理方法，將固體或液體材料表面氣化成氣態(tài)原子、分子或部分電離成離子，并通過(guò)低壓氣體（或等離子體）過(guò)程，在基體表面沉積具有某種特殊功能薄膜的技術(shù)。物理氣相沉積技術(shù)不僅可以沉積金

?涂層刀具是在強(qiáng)度和韌性較好的硬質(zhì)合金或高速鋼(HSS)基體表面上，利用氣相沉積方法涂覆一薄層耐磨性好的難熔金屬或非金屬化合物（也可涂覆在陶瓷、金剛石和立方氮化硼等超硬材料刀片上）而制備的。涂層作為一個(gè)化學(xué)屏障和熱屏障，減少了刀具與工件間的擴(kuò)散和化學(xué)反應(yīng)，從而減少了基體的損。涂層刀具具有表面硬度高、耐

?有人曾這樣形容磁控濺射技術(shù)——就像往平靜的湖水里投入了石子濺起水花。磁控濺射真空鍍膜技術(shù)是物理氣相沉積（Physical Vapor Deposition）的一種，其原理是：用帶電粒子加速轟擊靶材表面，發(fā)生表面原子碰撞并產(chǎn)生能量和動(dòng)量的轉(zhuǎn)移，使靶材原子從表面逸出并沉積在襯底材料上的過(guò)程。磁控濺射技術(shù)

?科學(xué)發(fā)展日新月異的今天，大量具有各種不同功能的薄膜得到了廣泛的應(yīng)用，薄膜作為一種重要的材料在材料領(lǐng)域占據(jù)著越來(lái)越重要的地位。利用粒子所具有的光、電、磁方面的特性,通過(guò)復(fù)合使新材料具有基體所不具備的特殊功能的薄膜，我們稱之為“功能薄膜”。而其作為一種高新技術(shù)產(chǎn)品，并不是高不可攀的，它應(yīng)用前景廣闊，在水

?隨著能源、環(huán)境問題日漸突出，太陽(yáng)能發(fā)電作為新能源產(chǎn)業(yè)的中堅(jiān)力量獲得了大量的關(guān)注。其中，太陽(yáng)能電池的發(fā)展對(duì)于整個(gè)光伏行業(yè)來(lái)說(shuō)至關(guān)重要。目前晶硅太陽(yáng)電池技術(shù)成熟，是市場(chǎng)上的主流，但是存在成本過(guò)高、效率面臨瓶頸等問題；而薄膜太陽(yáng)電池整體效率并不理想，難以實(shí)現(xiàn)大規(guī)模量產(chǎn)。在此情況下，研發(fā)原料資源豐富、無(wú)毒且

?前言：雜化鈣鈦礦晶體主要是將無(wú)機(jī)鹽和有機(jī)鹽充分混合及反應(yīng)后，然后將得到的前驅(qū)體溶液在介孔材料中的孔隙內(nèi)組裝而形成的。一般來(lái)說(shuō)，制備雜化鈣鈦礦晶體薄膜的方法有：①一步溶液旋涂法；②雙源氣相沉積法；③兩步溶液浸漬法。①一步溶液旋涂法是將等摩爾比的CH3NH3I和PbI2的γ-丁內(nèi)酯或DMF溶液，然后將其

?北京泰科諾科技23年真空行業(yè)經(jīng)驗(yàn)，獨(dú)立研發(fā)的熱絲法制備金剛石膜方法填補(bǔ)了國(guó)內(nèi)行業(yè)空白，產(chǎn)品獲得多項(xiàng)國(guó)家專利和認(rèn)證。廣泛適用于各大高校、科研院所和生產(chǎn)企業(yè)實(shí)現(xiàn)教學(xué)、研發(fā)和中試之目的。目前已初步實(shí)現(xiàn)產(chǎn)業(yè)化生產(chǎn)。一、制備金剛石厚膜1、連續(xù)沉積40天，膜層厚度2.1mm。2、可以把厚膜經(jīng)過(guò)激光切割成金剛石刀

?蒸鍍技術(shù)作為一種重要的薄膜制備方法，在電子、光學(xué)、太陽(yáng)能等眾多領(lǐng)域得到了廣泛應(yīng)用。選擇合適的蒸鍍材料和蒸發(fā)裝置是制備高質(zhì)量薄膜的關(guān)鍵，直接影響到薄膜的性能、生產(chǎn)成本以及生產(chǎn)效率。本文深入探討常見蒸鍍材料及蒸發(fā)裝置選擇。介紹了金屬、化合物、有機(jī)材料等各類蒸鍍材料特性，分析電阻、電子束蒸發(fā)裝置特點(diǎn)，闡述

?本文詳細(xì)探討了磁控濺射過(guò)程中靶中毒這一關(guān)鍵問題。深入分析了靶中毒的現(xiàn)象、機(jī)理及對(duì)濺射過(guò)程和薄膜質(zhì)量的嚴(yán)重影響。通過(guò)對(duì)反應(yīng)氣體、濺射功率、靶材與基底材料等多種因素的綜合研究，揭示了靶中毒的成因。靶面金屬化合物的形成由金屬靶面通過(guò)反應(yīng)濺射工藝形成化合物的過(guò)程中，化合物是在哪里形成的呢？由于活性反應(yīng)氣體粒