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1. 技術(shù)先進(jìn)、設(shè)計(jì)優(yōu)化，性價(jià)比高，性能穩(wěn)定，使用維護(hù)成本低。

2.大面積，復(fù)合型，批量制備，潔凈真空不同功能復(fù)合涂層制備，可獲得更高電池轉(zhuǎn)換效率。

3.廣泛用于鈣鈦礦太陽(yáng)能電池及復(fù)合功能薄膜材料制備等應(yīng)用。

設(shè)備名稱：鈣鈦礦大面積蒸發(fā)設(shè)備

設(shè)備型號(hào)：ZDF3200（單片/多片）

鍍膜方式：線源蒸發(fā)

真空腔室結(jié)構(gòu)：臥式方箱結(jié)構(gòu)

真空腔室尺寸：L810mm×W700mm×H670mm（鍍膜室）

極限真空：優(yōu)于5.0x10-?Pa

基片臺(tái)尺寸：330mm×420mm

基片溫度：80℃以下

膜厚不均勻性：≤±5.0%（330mmx420mm范圍內(nèi)）

蒸發(fā)源：高低溫線性蒸發(fā)源

膜厚監(jiān)控系統(tǒng)：國(guó)產(chǎn)或進(jìn)口多探頭（可選）

控制方式：PLC + 觸摸屏控制

占地面積：L3200mm×W2000mm×H1800mm

總功率：≥40KW