
北京泰科諾科技有限公司
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北京泰科諾科技有限公司
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設備名稱:熱絲 CVD 金剛石膜沉積設備
設備型號:HF1200
真空腔室結構:立式前開門結構,后置抽氣系統(tǒng),雙層水冷
真空腔室尺寸:Φ1200mmxH1200mm
真空系統(tǒng):高真空泵組系統(tǒng)
基片臺尺寸:Φ500mm2×600mm2 方形基片臺(旋轉、升降可選)
襯底溫度:600 ~ 1100℃
電源:專用熱絲電源 2200A, 恒流或恒功率模式
氣路控制:4 路氣體流量控制
控制方式:PC+PLC+ 觸摸屏控制
占地面積:主機 L5000mm×W3000mm×H4000mm
總功率:≥ 300kW
設備名稱:熱絲 CVD 金剛石膜沉積設備
設備型號:HF1200
真空腔室結構:立式前開門結構,后置抽氣系統(tǒng),雙層水冷
真空腔室尺寸:Φ1200mmxH1200mm
真空系統(tǒng):高真空泵組系統(tǒng)
基片臺尺寸:Φ500mm2×600mm2 方形基片臺(旋轉、升降可選)
襯底溫度:600 ~ 1100℃
電源:專用熱絲電源 2200A, 恒流或恒功率模式
氣路控制:4 路氣體流量控制
控制方式:PC+PLC+ 觸摸屏控制
占地面積:主機 L5000mm×W3000mm×H4000mm
總功率:≥ 300kW
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9111011475217349XB法人代表
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