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熱絲CVD金剛石膜沉積設備HF1200

熱絲CVD金剛石膜沉積設備HF1200
  • 品牌:北京泰科諾
  • 產地:北京
  • 關注度:1168
  • 型號:熱絲CVD金剛石膜沉積設備HF1200
  • 報價:面議
  • 信息完整度:
核心參數
    產品介紹

    設備名稱:熱絲 CVD 金剛石膜沉積設備

    設備型號:HF1200

    真空腔室結構:立式前開門結構,后置抽氣系統(tǒng),雙層水冷

    真空腔室尺寸:Φ1200mmxH1200mm

    真空系統(tǒng):高真空泵組系統(tǒng)

    基片臺尺寸:Φ500mm2×600mm2 方形基片臺(旋轉、升降可選)

    襯底溫度:600 ~ 1100℃

    電源:專用熱絲電源 2200A, 恒流或恒功率模式

    氣路控制:4 路氣體流量控制

    控制方式:PC+PLC+ 觸摸屏控制

    占地面積:主機 L5000mm×W3000mm×H4000mm

    總功率:≥ 300kW

    設備名稱:熱絲 CVD 金剛石膜沉積設備

    設備型號:HF1200

    真空腔室結構:立式前開門結構,后置抽氣系統(tǒng),雙層水冷

    真空腔室尺寸:Φ1200mmxH1200mm

    真空系統(tǒng):高真空泵組系統(tǒng)

    基片臺尺寸:Φ500mm2×600mm2 方形基片臺(旋轉、升降可選)

    襯底溫度:600 ~ 1100℃

    電源:專用熱絲電源 2200A, 恒流或恒功率模式

    氣路控制:4 路氣體流量控制

    控制方式:PC+PLC+ 觸摸屏控制

    占地面積:主機 L5000mm×W3000mm×H4000mm

    總功率:≥ 300kW


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    工商信息

    企業(yè)名稱

    北京泰科諾科技有限公司

    企業(yè)類型

    信用代碼

    9111011475217349XB

    法人代表

    注冊地址

    成立日期

    注冊資本

    有效期限

    經營范圍

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    北京泰科諾科技有限公司成立于2003年,一直專注于真空薄膜新材料沉積設備、真空技術應用設備及其工藝的研發(fā)試制生產,是一家集研發(fā)、設計、制浩銷售和服務于一體的高新技術企業(yè),在行業(yè)內獨樹一幟。公司擁有一支由多位教授、博士等領銜的技術研發(fā)、顧問團隊,具有較強的自主研發(fā)能力,確保了真空設備產品的高水平。同時建有研發(fā)鍍膜工藝、服務客戶的開放實驗室,始終保持技術**優(yōu)勢。公司主要研發(fā)設計生產磁控濺射鍍膜設備、電阻蒸發(fā)鍍膜設備、電子東蒸發(fā)鍍膜設備、離子東鍍膜設備、多功能復合鍍膜設備
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