
北京泰科諾科技有限公司
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鍍膜方式:蒸發(fā)
腔室結(jié)構(gòu):方箱式
工藝室尺寸:L1900mmxH2200mmxW550mm
進樣室:500mm×600mm×400mm
過渡室:500mm×600mm×400mm
極限真空:6×10-5pa
基片臺尺寸:300mm×400mm
基片溫度:常溫
均勻性:≤±5.0%
濺射靶:低溫和高溫線源配置
控制:PC
點地面積:4000mm×2500mm×2200
功率:70KW三相五線制
1. 技術(shù)先進、設(shè)計優(yōu)化,性價比高,性能穩(wěn)定,使用維護成本低;
2. 廣泛應(yīng)用于鈣鈦礦太陽能電池/OPV有機太陽能電池等各種膜層的制備;
如:鈣鈦礦層、電子傳輸層及背電極等膜層的制備;
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