- 品牌:北京泰科諾
- 產(chǎn)地:北京
- 關(guān)注度:1044
- 型號(hào):高真空磁控濺射鍍膜設(shè)備JCP200
- 報(bào)價(jià):面議
- 信息完整度:





設(shè)備型號(hào): JCP200
真空腔室結(jié)構(gòu): 立式上開蓋結(jié)構(gòu)
真空腔室尺寸: Φ220mm×H300mm
加熱溫度: 室溫~ 500℃
基片臺(tái)尺寸: Φ100mm
膜厚不均勻性: Φ50mm 范圍內(nèi)≤ ±5.0%
濺射靶: Φ2 英寸磁控靶 1 支 兼容 DC/RF 濺射
工藝氣體 :1-2 路氣體流量控制
控制方式 :PLC + 觸摸屏控制
占地面積 (主機(jī)) :L600mm×W800mm×H1700mm
總功率 :≥ 6kW
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北京泰科諾科技有限公司成立于2003年,一直專注于真空薄膜新材料沉積設(shè)備、真空技術(shù)應(yīng)用設(shè)備及其工藝的研發(fā)試制生產(chǎn),是一家集研發(fā)、設(shè)計(jì)、制浩銷售和服務(wù)于一體的高新技術(shù)企業(yè),在行業(yè)內(nèi)獨(dú)樹一幟。公司擁有一支由多位教授、博士等領(lǐng)銜的技術(shù)研發(fā)、顧問團(tuán)隊(duì),具有較強(qiáng)的自主研發(fā)能力,確保了真空設(shè)備產(chǎn)品的高水平。同時(shí)建有研發(fā)鍍膜工藝、服務(wù)客戶的開放實(shí)驗(yàn)室,始終保持技術(shù)**優(yōu)勢。公司主要研發(fā)設(shè)計(jì)生產(chǎn)磁控濺射鍍膜設(shè)備、電阻蒸發(fā)鍍膜設(shè)備、電子?xùn)|蒸發(fā)鍍膜設(shè)備、離子?xùn)|鍍膜設(shè)備、多功能復(fù)合鍍膜設(shè)備
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