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設備型號：ZHD300
鍍膜方式：多源金屬蒸發(fā)
真空腔室結構：玻璃鐘罩 + 不銹鋼底座
真空腔室尺寸：Φ300mm×H360mm
加熱溫度：室溫～ 250℃
基片臺尺寸：Φ100mm
膜厚不均勻性：Φ80mm 范圍內≤ ±5.0%
蒸發(fā)源：2組金屬蒸發(fā)源
控制方式：PLC + 觸摸屏控制
占地面積：主機 L1100mm×W800mm
總功率：≥ 5kW
適用范圍：大專院校、科研院所及企業(yè)進行薄膜新材料的科研與小批量制備

1. 設備一體化設計，占地面積小，性價比高，性能穩(wěn)定，使用維護成本低；

2. 設備配備多組蒸發(fā)源，兼容有機蒸發(fā)與無機蒸發(fā) , 多源共蒸獲得復合膜。設計專業(yè)，功能強大，性能穩(wěn)定；

3. 適用于實驗室制備金屬單質膜、半導體膜、有機膜，也可用于生產線前期工藝試驗等。