- 品牌:北京泰科諾
- 產(chǎn)地:北京
- 關(guān)注度:346
- 型號(hào):電阻蒸發(fā)鍍膜設(shè)備ZHD600
- 報(bào)價(jià):面議
- 信息完整度:





設(shè)備型號(hào):ZHD600
鍍膜方式:多源蒸發(fā)鍍膜
真空腔室結(jié)構(gòu):立式圓柱前開門
真空腔室尺寸:Φ650mm×H800mm
加熱溫度:室溫~ 300℃
基片臺(tái)尺寸:平板或傘罩型
膜厚不均勻性:≤ ±5.0%
蒸發(fā)源:2-3 組金屬蒸發(fā)源
控制方式:PLC/PC(可選)
占地面積:主機(jī) L1000mm×W1200mm×H1900mm
總功率:≥ 12kW

大專院校、科研院所及企業(yè)進(jìn)行薄膜新材料的科研與小批量制備 。

1. 設(shè)備一體化設(shè)計(jì),占地面積小,性價(jià)比高,性能穩(wěn)定,使用維護(hù)成本低;
2. 設(shè)備配備多組蒸發(fā)源,兼容有機(jī)蒸發(fā)與無(wú)機(jī)蒸發(fā) , 多源共蒸獲得復(fù)合膜。設(shè)計(jì)專業(yè),功能強(qiáng)大,性能穩(wěn)定;
3. 適用于實(shí)驗(yàn)室制備金屬單質(zhì)膜、半導(dǎo)體膜、有機(jī)膜,也可用于生產(chǎn)線前期工藝試驗(yàn)等。
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